特許
J-GLOBAL ID：200903058586929554

中性粒子ビーム処理装置

発明者：
一木 克則

一木 克則 について

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山内 和雄

山内 和雄 について

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桧山 浩国

桧山 浩国 について

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寒川 誠二

寒川 誠二 について


出願人/特許権者：
株式会社荏原製作所

株式会社荏原製作所 について

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東北大学長

東北大学長 について


代理人 (1件)： 渡邉 勇 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-088859
公開番号（公開出願番号）：特開2002-289581
出願日： 2001年03月26日
公開日（公表日）： 2002年10月04日
要約：
【要約】【課題】 安価且つコンパクトな構成で大口径のビームを被処理物に照射することができ、また、被処理物に損傷を与えにくい中性粒子ビーム処理装置を提供する。【解決手段】 被処理物Xを保持する保持部20と、高周波電界を印加することで真空チャンバ3内にプラズマを生成するプラズマ生成部と、被処理物Xとプラズマ生成部との間に配置されたオリフィス電極4と、グリッド電極5と、高周波電界の印加を停止しているときに、陽極としてのオリフィス電極4と陰極としてのグリッド電極5との間に電圧を印加することで、生成されたプラズマから負イオン6を加速してオリフィス電極4に形成されたオリフィス4aを通過させるバイポーラ電源102とを備えた。
請求項（抜粋）：
被処理物を保持する保持部と、高周波電界を印加することで真空チャンバ内にプラズマを生成するプラズマ生成部と、前記被処理物と前記プラズマ生成部との間に配置されたオリフィス電極と、前記真空チャンバ内に前記オリフィス電極に対して上流側に配置されたグリッド電極と、前記プラズマ生成部における高周波電界の印加を停止しているときに、陽極としての前記オリフィス電極と陰極としての前記グリッド電極との間に電圧を印加することで、前記プラズマ生成部により生成されたプラズマから負イオンを加速して前記オリフィス電極に形成されたオリフィスを通過させる電圧印加部とを備えたことを特徴とする中性粒子ビーム処理装置。
IPC (5件)：
H01L 21/3065 ,  C23C 14/32 ,  H01J 37/32 ,  H01L 21/31 ,  H05H 1/46
FI (5件)：
C23C 14/32 F ,  H01J 37/32 ,  H01L 21/31 C ,  H05H 1/46 L ,  H01L 21/302 B
Fターム (24件)：
4K029DE00 ,  4K029DE01 ,  4K029DE04 ,  5F004AA06 ,  5F004BA20 ,  5F004BB11 ,  5F004BB13 ,  5F004BB29 ,  5F004BD04 ,  5F004DA01 ,  5F004DA04 ,  5F004DA16 ,  5F004DA18 ,  5F004DA23 ,  5F004DA26 ,  5F045AA08 ,  5F045AB32 ,  5F045AB33 ,  5F045BB16 ,  5F045DP02 ,  5F045EH04 ,  5F045EH06 ,  5F045EH11 ,  5F045EH20
引用特許：
出願人引用 (14件)
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審査官引用 (14件)
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