特許
J-GLOBAL ID：200903059313188779

偏光制御素子、偏光制御装置

発明者：
三宮 俊

三宮 俊 について

, 
福田 浩章

福田 浩章 について


出願人/特許権者：
株式会社リコー

株式会社リコー について


代理人 (2件)： 武井 秀彦 ,  吉村 康男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-069098
公開番号（公開出願番号）：特開2009-223123
出願日： 2008年03月18日
公開日（公表日）： 2009年10月01日
要約：
【課題】偏光制御効率を向上させ、偏光特性の調整が可能であり、動作波長帯域の調整が可能であり、外的な損傷に強い偏光制御素子を提供すること。【解決手段】支持体上または支持体内部に、入射光の波長より小さなサイズの複数個の金属構造体と、入射光の波長より小さなサイズの複数個の開口部を有する金属膜を少なくとも有し、金属膜の開口部と、2個以上の金属構造体からなるユニットを、2次元的に配置するとともに、該ユニットに含まれる2個以上の金属構造体は、同一形状ならびに同一の大きさであり、該金属構造体の大きさよりも近接して配置することを特徴とする偏光制御素子。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
支持体上または支持体内部に、入射光の波長より小さなサイズの複数個の金属構造体と、入射光の波長より小さなサイズの複数個の開口部を有する金属膜を少なくとも有し、金属膜の開口部と、2個以上の金属構造体からなるユニットを、2次元的に配置するとともに、該ユニットに含まれる2個以上の金属構造体は、同一形状ならびに同一の大きさであり、該金属構造体の大きさよりも近接して配置することを特徴とする偏光制御素子。
IPC (2件)：
G02B 5/30 ,  G02F 1/133
FI (2件)：
G02B5/30 ,  G02F1/1335 510
Fターム (25件)：
2H149AA02 ,  2H149AB01 ,  2H149BA02 ,  2H149DA02 ,  2H149DA13 ,  2H149DB38 ,  2H149EA05 ,  2H149FA41Y ,  2H149FA41Z ,  2H149FC07 ,  2H191FA24Z ,  2H191FA28X ,  2H191FA28Z ,  2H191FA29X ,  2H191FA29Z ,  2H191FA30X ,  2H191FA30Z ,  2H191FA31Z ,  2H191FB13 ,  2H191FB14 ,  2H191FC03 ,  2H191FC36 ,  2H191MA11 ,  2H191PA44 ,  2H191PA81
引用特許：
出願人引用 (21件)
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審査官引用 (4件)
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