特許
J-GLOBAL ID：200903072103738780
レーザーアブレーション利用の試料測定方法及び装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
市東 篤
, 市東 禮次郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-092852
公開番号（公開出願番号）：特開2004-301573
出願日： 2003年03月28日
公開日（公表日）： 2004年10月28日
要約：
【課題】SN比を高めたレーザーアブレーション利用の試料測定方法及び装置を提供する。【解決手段】試料が付着した基体1の表面に当該基体1に対するアブレーション閾値以下で試料に対するアブレーション閾値以上の属性のレーザー光4を照射し、試料のアブレーションによるプラズマ発光6の分光分析により試料の構成物質を測定する。好ましくは、基体1をプローブとし、測定すべき試料をプローブ1に付着させ、プローブ1に対するアブレーション閾値以下で試料に対するアブレーション閾値以上の属性のレーザー光4をプローブ1の試料付着部2に照射する。更に好ましくは、レーザー光4の発振波長を長くし、プローブ1に対するアブレーション閾値A2と試料に対するアブレーション閾値A1との差(=A2-A1)を大きくする。例えばレーザー光4を炭酸ガスレーザー光とし、プローブ1を金属製とする。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
試料が付着した基体表面に当該基体に対するアブレーション閾値以下で前記試料に対するアブレーション閾値以上の属性のレーザー光を照射し、前記試料のアブレーションによるプラズマ発光の分光分析により前記試料の構成物質を測定してなるレーザーアブレーション利用の試料測定方法。
IPC (1件)：
FI (2件)：
G01N21/63 Z
, G01N21/63 A
2G043AA01
, 2G043AA03
, 2G043BA07
, 2G043BA13
, 2G043CA01
, 2G043CA03
, 2G043CA05
, 2G043DA06
, 2G043EA10
, 2G043FA03
, 2G043HA01
, 2G043HA03
, 2G043HA05
, 2G043JA05
, 2G043KA03
, 2G043KA08
, 2G043KA09
, 2G043LA03
, 2G043NA01
, 2G043NA06
