特許
J-GLOBAL ID:200903073488018283
大型超精密ELID非球面加工装置
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
堀田 実 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-123634
公開番号(公開出願番号):特開2001-300838
出願日: 2000年04月25日
公開日(公表日): 2001年10月30日
要約:
【要約】【課題】 加工抵抗による変形や熱膨張の影響を最小限に抑えてワークと工具の相対位置を高精度に保持することができ、かつワークの取外し/取付けを行うことなく、機上でポリッシング及び形状計測が可能であり、大型超精密X線ミラー等を高精度かつ優れた表面粗さに高能率に加工することができる大型超精密ELID非球面加工装置を提供する。【解決手段】 水平な上面を有するX軸方向に細長いマシーンベット12と、マシーンベット上に取り付けられ上面にワーク4を固定してX軸方向にNC制御可能なX軸テーブル14と、X軸テーブルを跨いでX軸に直交する水平なY軸方向に延び両脚部がマシーンベットに固定された門型固定コラム16と、門型固定コラム上に取り付けられY軸方向にNC制御可能なY軸ステージ18と、Y軸ステージに吊り下げられ鉛直なZ軸方向にNC制御可能なZ軸コラム20と、Z軸コラムに取り付けられたELID研削装置22、ポリッシング装置24及び形状計測装置26とを備えた。
請求項(抜粋):
水平な上面を有するX軸方向に細長いマシーンベット(12)と、該マシーンベット上に取り付けられ上面にワーク(4)を固定してX軸方向にNC制御可能なX軸テーブル(14)と、該X軸テーブルを跨いでX軸に直交する水平なY軸方向に延び両脚部がマシーンベットに固定された門型固定コラム(16)と、該門型固定コラム上に取り付けられY軸方向にNC制御可能なY軸ステージ(18)と、該Y軸ステージに吊り下げられ鉛直なZ軸方向にNC制御可能なZ軸コラム(20)と、該Z軸コラムに取り付けられたELID研削装置(22)、ポリッシング装置(24)及び形状計測装置(26)とを備えた、ことを特徴とする大型超精密ELID非球面加工装置。
IPC (5件):
B24B 13/00
, B23H 5/00
, B23Q 11/12
, B23Q 17/20
, B24B 53/00
FI (5件):
B24B 13/00 A
, B23H 5/00 J
, B23Q 11/12 D
, B23Q 17/20 A
, B24B 53/00 D
Fターム (17件):
3C029BB01
, 3C047AA13
, 3C047AA25
, 3C047AA27
, 3C049AA03
, 3C049AA11
, 3C049AC02
, 3C049BA01
, 3C049BA07
, 3C049BB06
, 3C049BB09
, 3C049CA02
, 3C049CB01
, 3C059AA02
, 3C059AB01
, 3C059GC01
, 3C059HA08
引用特許:
審査官引用 (15件)
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研磨装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平10-050678
出願人:オリンパス光学工業株式会社
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放射光用光学素子とその加工方法及び装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平6-125366
出願人:理化学研究所
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6軸制御工作機械
公報種別:公開公報
出願番号:特願平4-103777
出願人:株式会社牧野フライス製作所
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ステージ装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平7-156817
出願人:株式会社ニコン
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露光装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平4-223870
出願人:株式会社ニコン
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研削ホイール用超精密ツルーイング装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平9-123149
出願人:住友重機械工業株式会社
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ボールねじ装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平10-188695
出願人:日本精工株式会社
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中空ボールねじ
公報種別:公開公報
出願番号:特願平7-194602
出願人:エヌティエヌ株式会社
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加工機におけるNCデータ入力方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平10-198243
出願人:株式会社小松製作所
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工作機械用タッチプローブ
公報種別:公開公報
出願番号:特願平5-075778
出願人:株式会社ミツトヨ, 株式会社メトロール
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タッチ信号プローブ
公報種別:公開公報
出願番号:特願平4-324202
出願人:株式会社ミツトヨ
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特開昭62-203745
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研削・研磨砥石
公報種別:公開公報
出願番号:特願平6-093989
出願人:オリンパス光学工業株式会社
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球面創成加工方法及びその装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平6-142415
出願人:オリンパス光学工業株式会社
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光学素子の研削装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平9-299772
出願人:オリンパス光学工業株式会社
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