特許
J-GLOBAL ID：200903073722111152

処理装置及び洗浄装置

発明者：
金子 聡

金子 聡 について


出願人/特許権者：
東京エレクトロン株式会社

東京エレクトロン株式会社 について

, 
東京エレクトロン九州株式会社

東京エレクトロン九州株式会社 について


代理人 (1件)： 金本 哲男 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-206000
公開番号（公開出願番号）：特開平8-051092
出願日： 1994年08月08日
公開日（公表日）： 1996年02月20日
要約：
【要約】【目的】 整列状態の被処理体に対して処理を施す場合、両端に位置する被処理体の処理面を汚染させない。【構成】 表面に処理面を裏面に非処理面を有する複数のウエハWを、整列状態で薬液洗浄処理槽25内で洗浄するにあたり、ウエハWを中央で二分してウエハ群W1、W2にグループ分けし、各ウエハ群W1、W2の各ウエハWの処理面を内側に対向させた状態で洗浄する。【効果】 薬液洗浄処理槽25内の処理槽内壁付近に汚染要素が存在しても、両端のウエハWは、裏面の非処理面を向けているので、汚染されない。
請求項（抜粋）：
複数の被処理基板を収納した収納部材から被処理体を取り出して処理容器内搭載治具に移載する移送装置を有し、前記処理容器内の搭載治具に搭載された被処理基板に対して所定の処理を施す如く構成された処理装置において、前記被処理基板を表裏反転させる反転機構を、前記搭載治具への移載段階以前に備えたことを特徴とする、処理装置。
IPC (2件)：
H01L 21/304 341 ,  H01L 21/304
引用特許：
審査官引用 (11件)
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