特許
J-GLOBAL ID:200903074425800050
静電チャック
発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2004-046668
公開番号(公開出願番号):特開2004-282047
出願日: 2004年02月23日
公開日(公表日): 2004年10月07日
要約:
【課題】ウェハWの面内温度差が小さく、飽和時間が小さい静電チャックを提供する。【解決手段】静電吸着用電極18を備えた円板状セラミック体2の一方の主面に、周辺に同心円状の環状凸部12とその内側に複数の孤立した凸部11を備え、これらの凸部の上面をウェハ載置面3とするとともに、上記凸部以外の部分をガス凹部8として、ガス凹部8に連通するガス導入口4を備え、ガス導入口4周辺のガス凹部8aの幅を他の部分のガス凹部8の幅よりも大きくする。また、ガス導入部4の周辺の凹部8aの幅が他のガス凹部8の幅の1.4〜20倍とする。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
静電吸着用電極を備えた円板状セラミック体の一方の主面の少なくとも周辺に同心円状の環状凸部とその内側に複数の孤立した凸部を備え、これらの凸部の上面をウェハ載置面とするとともに、上記凸部以外の部分をガス凹部として、該ガス凹部に連通するガス導入口を備え、該ガス導入口周辺のガス凹部の幅が他の部分のガス凹部の幅よりも大きいことを特徴とする静電チャック。
IPC (3件):
H01L21/68
, B23Q3/15
, H02N13/00
FI (3件):
H01L21/68 R
, B23Q3/15 D
, H02N13/00 D
Fターム (11件):
3C016GA10
, 5F031CA02
, 5F031HA02
, 5F031HA03
, 5F031HA16
, 5F031HA37
, 5F031HA40
, 5F031JA01
, 5F031JA46
, 5F031PA11
, 5F031PA14
引用特許:
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (7件)
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プラズマ処理装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平11-052618
出願人:アネルバ株式会社
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静電チャックおよびその製造方法
公報種別:公表公報
出願番号:特願2001-509077
出願人:ラムリサーチコーポレーション
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静電チャック
公報種別:公開公報
出願番号:特願2000-365612
出願人:京セラ株式会社
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静電チャック
公報種別:公開公報
出願番号:特願平10-274506
出願人:日本碍子株式会社
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静電チャックおよび基板処理装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願2001-019487
出願人:日本碍子株式会社, アネルバ株式会社
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試料の処理装置及び試料の処理方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願2000-186547
出願人:株式会社日立製作所
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静電チャック
公報種別:公開公報
出願番号:特願2001-132725
出願人:京セラ株式会社
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