特許
J-GLOBAL ID：200903079791657718
パターン欠陥検査装置および方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
筒井 大和
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-144817
公開番号（公開出願番号）：特開2006-322766
出願日： 2005年05月18日
公開日（公表日）： 2006年11月30日
要約：
【課題】 ウェハ上の多様な欠陥を高速、高感度に検出するパターン欠陥検査装置および方法を提供する。【解決手段】 パターン欠陥検査装置において、複数の波長を出力可能な照明光源3から射出された光を、照明光学系4で線状に照明する。ウェハ1上の回路パターンや欠陥により回折、散乱された光は、結像光学系5でラインセンサ6に集光され、ディジタル信号に変換され、信号処理部7で欠陥が検出される。このとき、照明光学系4の光軸101と結像光学系5の光軸102でなす面と配線パターンの方向をほぼ平行にし、さらに、結像光学系5の光軸102とウェハ1とのなす角度を、パターンからの回折光が少なくなる角度に設定することにより、高感度に欠陥を検出する。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
試料を照明する照明手段と、
前記照明手段により照明された前記試料からの散乱光を結像する結像手段と、
前記結像手段により形成された前記試料の像を光電変換する検出手段と、
前記検出手段から出力された信号を処理し、前記試料上の欠陥を検出する信号処理手段とを備えたパターン欠陥検査装置であって、
前記照明手段の光軸と前記結像手段の光軸とがなす面が前記試料上の配線パターンとほぼ平行であることを特徴とするパターン欠陥検査装置。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (17件)：
2G051AA51
, 2G051AB02
, 2G051BA08
, 2G051BA20
, 2G051BB03
, 2G051BB09
, 2G051CA03
, 2G051CA06
, 2G051CB05
, 2G051CB06
, 2G051DA05
, 2G051EA04
, 2G051EA23
, 2G051EB03
, 2G051EC02
, 2G051EC05
, 2G051ED11
出願人引用 (5件)
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特開昭61-212708号公報
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被検査パターンの欠陥検査方法及びその装置
公報種別：公開公報
出願番号：特願平7-128197
出願人：株式会社日立製作所
-
検査装置
公報種別：公開公報
出願番号：特願平8-234268
出願人：株式会社東芝
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審査官引用 (7件)
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