特許
J-GLOBAL ID：200903080945507852

収納容器のガス置換装置およびそれを用いたガス置換方法

発明者：
中野 龍一

中野 龍一 について

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兵部 行遠

兵部 行遠 について

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岡本 好久

岡本 好久 について


出願人/特許権者：
ミライアル株式会社

ミライアル株式会社 について


代理人 (1件)： 工藤 宣幸
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-153025
公開番号（公開出願番号）：特開2005-340243
出願日： 2004年05月24日
公開日（公表日）： 2005年12月08日
要約：
【課題】ガス導入孔を有していない一般の半導体ウエハー収納容器内のガスを短時間に置換するとともに、半導体ウエハー表面を清浄化する。【解決手段】蓋体2がガス置換流路内部に全て収納されるように収納容器本体1を気密に取り付けることが可能な半導体ウエハー収納容器取付け手段3と、この半導体ウエハー収納容器取付け手段3内で上記蓋体2を開けた状態で、収納容器本体1と蓋体2との隙間からガスを導入するガス導入手段6、7、8と、上記収納容器本体1のガスを排気するガス排気手段9と、化学吸着フィルター10を介して上記収納容器本体1のガスを循環させるガス循環手段11と、上記排気手段9と上記ガス循環手段11との間でガス流を切り替えるガス流切り替え手段18、19とから構成した。【選択図】図3
請求項（抜粋）：
内部を清浄に保つ必要のある容器本体及び当該容器本体内を密封する蓋体からなる収納容器内のガスを置換する収納容器のガス置換装置であって、 上記収納容器の蓋体を内部に収納した状態で上記容器本体に気密に取り付けられ、この気密状態を維持して上記蓋体を取り外して当該蓋体と上記容器本体との隙間から内部のガスを置換することを特徴とする収納容器のガス置換装置。
IPC (1件)：
H01L21/68
FI (2件)：
H01L21/68 A ,  H01L21/68 T
Fターム (6件)：
5F031CA02 ,  5F031DA08 ,  5F031EA14 ,  5F031NA04 ,  5F031NA10 ,  5F031NA20
引用特許：
出願人引用 (1件)
  • ケース
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-234437   出願人：株式会社日立製作所, 日立東京エレクトロニクス株式会社
審査官引用 (12件)
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