濃度分布マスクとその製造方法及び表面形状の形成方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：野口繁雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-188975
公開番号（公開出願番号）：特開2001-296649
出願日： 2000年06月23日
公開日（公表日）： 2001年10月26日
要約：

【要約】【課題】所望の2次元的な光強度分布を有する露光用の濃度分布マスクを実現する。【解決手段】所望の3次元構造の表面形状を形成すべき基板材料表面上に塗布された感光性材料層に所定の光強度分布のパターンを露光し、感光性材料層の厚さを目的とする表面形状に対応して3次元的に変化せしめるための濃度分布マスクにおいて、マスクパターンを複数の単位セル11で構成し、各単位セル内の光透過領域16又は遮光領域15が、所望の表面形状に応じた透過率分布となるように2次元的に設計され、上記マスクパターンを透過した光が上記表面形状に対応した2次元の光強度分布を有する構造とした。

請求項（抜粋）：

所望の3次元構造の表面形状を形成すべき基板材料表面上に塗布された感光性材料層に所定の光強度分布のパターンを露光し、感光性材料層の厚さを目的とする表面形状に対応して3次元的に変化せしめるための濃度分布マスクにおいて、マスクパターンを複数の単位セルで構成し、各単位セル内の光透過領域又は遮光領域が、所望の表面形状に応じた透過率分布となるように2次元的に設計され、前記マスクパターンを透過した光が前記表面形状に対応した2次元の光強度分布を有することを特徴とする濃度分布マスク。

IPC (2件)：

G03F 1/08 , G03F 7/24

FI (3件)：

G03F 1/08 G , G03F 1/08 L , G03F 7/24 Z

Fターム (8件)：

2H095BB02 , 2H095BB36 , 2H095BC08 , 2H095BC09 , 2H097BA01 , 2H097BB01 , 2H097JA02 , 2H097LA15

引用特許：

審査官引用 (14件)

特開平2-151862
グラデーションマスクとその製造方法およびグラデーションマスクを用いた特殊表面形状の創成方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-088092 出願人：リコー光学株式会社
マイクロレンズの製造方法および装置
公報種別：公表公報出願番号：特願平6-513119 出願人：ロッキードミサイルズアンドスペースカンパニーインコーポレイテッド

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