特許
J-GLOBAL ID：200903090513869180
荷電粒子ビーム装置及び試料作製方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
平木 祐輔
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-312703
公開番号（公開出願番号）：特開2006-127850
出願日： 2004年10月27日
公開日（公表日）： 2006年05月18日
要約：
【課題】試料のイオンビーム照射による高精度の薄膜加工と電子ビーム照射による高分解能のSTEM観察の両者を、ほぼ試料を動かすことなく、高スループットで実施する。【解決手段】FIB照射系16の照射軸とSTEM観察用電子ビーム照射系5の照射軸をほぼ直交させ、その交差位置に試料7を配置して、試料のFIB断面加工面をSTEM観察用試料の薄膜面にとる。透過・散乱ビーム検出手段9a,9bは、電子ビーム照射軸上で電子ビーム照射方向からみて試料の後方に配置する。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
電子銃から放出した電子を電子ビームとして細く絞り、走査しながら試料上に照射する電子ビーム照射系と、
試料を透過した電子ビームを検出する透過電子検出器と、
試料によって散乱された電子ビームを検出する散乱電子検出器と、
イオン銃から放出したイオンをイオンビームとして細く絞り、走査しながら試料上に照射して試料を加工するイオンビーム照射系と、
前記電子ビームと前記イオンビームの少なくとも一方のビーム照射により試料から放出された二次電子を検出する二次電子検出器と、
前記透過電子検出器、散乱電子検出器及び/又は前記二次電子検出器による検出信号を輝度信号とした試料のビーム走査画像を表示する画像表示手段と、
試料を保持する試料ホルダーとを備え、
前記イオンビームの照射軸と前記電子ビームの照射軸はほぼ直角に交差し、その交差位置に前記試料ホルダーが配置されていることを特徴とする荷電粒子ビーム装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01J37/28 C
, H01J37/317 D
5C033UU03
, 5C033UU06
, 5C033UU10
, 5C034DD09
出願人引用 (14件)
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審査官引用 (9件)
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