二次元分布を測定する方法及び装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：野口繁雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-075788
公開番号（公開出願番号）：特開2009-258101
出願日： 2009年03月26日
公開日（公表日）： 2009年11月05日
要約：

【課題】X線又は光学測定において迅速に、しかも空間分解能の高い二次元画像取得方法とその装置を提供する。【解決手段】蛍光X線による二次元画像測定装置に適用した形態では、二次元X線検出器と試料の間に2つの独立したコリメータを配置し、試料に近い側のコリメータで蛍光X線を二次元の平行光束とし、他のコリメータを経て検出器に導いて蛍光X線による二次元画像を得る。このとき、2つのコリメータのなす角度をX線全反射臨界角近傍で調整することにより、検出器に到達する蛍光X線のエネルギーを選別する。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

以下のステップ(A)から(C)を備えて測定対象の二次元分布を測定する測定方法。 (A)X線又は光を二次元の平行光束とする第1コリメータを介して測定しようとするX線又は光の二次元の平行光束を得るステップ、 (B)第1コリメータから出射した二次元の平行光束を互いに平行な複数のチャネルからなる第2コリメータを介して二次元の平行光束として出射させるステップ、及び (C)第2コリメータから出射したX線又は光を二次元検出器で受光して二次元画像として撮像するステップ。

IPC (4件)：

G01N 23/223 , G01N 21/27 , G21K 1/02 , G21K 1/00

FI (4件)：

G01N23/223 , G01N21/27 A , G21K1/02 C , G21K1/00 X

Fターム (38件)：

2G001AA01 , 2G001AA08 , 2G001AA10 , 2G001BA04 , 2G001BA11 , 2G001BA15 , 2G001BA30 , 2G001CA01 , 2G001DA01 , 2G001DA02 , 2G001EA01 , 2G001EA06 , 2G001GA01 , 2G001GA05 , 2G001GA06 , 2G001GA13 , 2G001HA07 , 2G001HA13 , 2G001KA01 , 2G001LA02 , 2G001MA02 , 2G001MA05 , 2G001NA10 , 2G001NA17 , 2G001QA01 , 2G001SA02 , 2G001SA10 , 2G001SA30 , 2G059AA01 , 2G059BB04 , 2G059BB10 , 2G059EE01 , 2G059EE02 , 2G059FF01 , 2G059JJ01 , 2G059JJ05 , 2G059JJ11 , 2G059KK04

引用特許：

審査官引用 (14件)

X線分析方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-195944 出願人：理学電機工業株式会社
全反射蛍光X線分析法およびその装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2002-215631 出願人：独立行政法人物質・材料研究機構
例示的な乳房組織についての体組織の特徴付けにおけるコンプトン散乱の利用、又はXRF(X線蛍光)及びEDXRD(エネルギ分散型X線回折)の組み合わせの利用
公報種別：公表公報出願番号：特願2006-543624 出願人：ティシュオミクスリミテッド

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