特許
J-GLOBAL ID:201003082539656298
研磨パッドおよびその製造方法
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
五十嵐 俊明
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2008-168707
公開番号(公開出願番号):特開2010-005747
出願日: 2008年06月27日
公開日(公表日): 2010年01月14日
要約:
【課題】研磨面を介して内部に研磨粒子が進入不能でも研磨傷の発生を抑制し研磨レートを確保しつつ被研磨物の平坦性を向上させることができる研磨パッドを提供する。【解決手段】研磨パッド10は、ポリウレタン樹脂で形成されたウレタンシート2を備えている。ウレタンシート2は、被研磨物を研磨加工するための研磨面Pを有している。ウレタンシート2では、研磨面Pに砥粒が通過可能な開孔が形成されておらず、研磨面Pを介してウレタンシート2の内部に、砥粒が進入不能に形成されている。ウレタンシート2では、ヒステリシスロス率が5〜40%の範囲に設定されている。研磨加工時に、研磨液中の砥粒によりウレタンシート2の研磨面Pが変形してもその変形が短時間で回復し、砥粒が移動しやすくなる。【選択図】図1
請求項(抜粋):
被研磨物を研磨加工するための研磨面を有するポリウレタン樹脂シートを備えた研磨パッドにおいて、前記ポリウレタン樹脂シートは、前記研磨面を介してその内部に研磨粒子が進入不能であり、該ポリウレタン樹脂シートを一定厚さに重ねて厚さの変位量が75%となるまで一定速さで加圧したのち前記一定速さで除圧したときに、加圧時エネルギと除圧時エネルギとの差の前記加圧時エネルギに対する百分率で定義されるヒステリシスロス率が5%〜40%の範囲であることを特徴とする研磨パッド。
IPC (3件):
B24B 37/00
, H01L 21/304
, C08J 5/14
FI (5件):
B24B37/00 P
, B24B37/00 T
, B24B37/00 C
, H01L21/304 622F
, C08J5/14
Fターム (12件):
3C058AA07
, 3C058AA09
, 3C058CA06
, 3C058CB01
, 3C058CB10
, 3C058DA17
, 4F071AA53
, 4F071AB03
, 4F071AE22
, 4F071AF22Y
, 4F071BC01
, 4F071BC03
引用特許:
出願人引用 (11件)
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特許3013105号公報
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CMP研磨用研磨パッドおよびCMP研磨方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願2001-360941
出願人:土肥俊郎, 旭硝子株式会社, 帝人メトン株式会社
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研磨パッド
公報種別:公開公報
出願番号:特願2004-299838
出願人:日本ミクロコーティング株式会社
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審査官引用 (4件)