特許
J-GLOBAL ID：201103061385016932
プロセス排気ガスモニタ装置及び方法、半導体製造装置、及び半導体製造装置管理システム及び方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
伊東 忠彦
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-297203
公開番号（公開出願番号）：特開2001-196361
特許番号：特許第4387573号
出願日： 2000年09月28日
公開日（公表日）： 2001年07月19日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 被処理体を所定の処理条件で処理した結果発生する複数の種類のガス成分が含まれるプロセス排気ガスの成分量をモニタするプロセス排気ガスモニタ装置であって、
複数の処理装置又は一つの処理装置の複数の異なる部位からプロセス排気ガスを採取するガス採取手段と、
採取したプロセス排気ガスの成分を分析するガス分析手段と、
前記ガス分析手段による分析結果と、基準となる処理条件により処理が行われた際のプロセス排気ガスの基準分析結果とを比較する比較手段と、
前記比較手段での比較により、プロセス排気ガス中の少なくとも一つのガス成分量が基準分析結果から得られた基準値から所定の範囲を超えて変化したと判定された場合に、プロセスの異常を表す信号を生成して出力する検知手段と、
プロセス排気ガスを前記複数の処理装置又は前記一つの処理装置の複数の部位から順次採取するためにプロセス排気ガスの通路を切り替える切り替え手段と
を有することを特徴とするプロセス排気ガスモニタ装置。
IPC (5件)：
H01L 21/3065 ( 200 6.01)
, C23C 16/44 ( 200 6.01)
, C23C 16/52 ( 200 6.01)
, H01L 21/205 ( 200 6.01)
, H01L 21/02 ( 200 6.01)
H01L 21/302 101 G
, C23C 16/44 E
, C23C 16/52
, H01L 21/205
, H01L 21/02 Z
出願人引用 (15件)
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審査官引用 (17件)
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