特許
J-GLOBAL ID:201103081795669993
ターゲットを露光するための方法およびシステム
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (9件):
蔵田 昌俊
, 河野 哲
, 中村 誠
, 福原 淑弘
, 峰 隆司
, 白根 俊郎
, 村松 貞男
, 野河 信久
, 砂川 克
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2011-512124
公開番号(公開出願番号):特表2011-523786
出願日: 2009年06月04日
公開日(公表日): 2011年08月18日
要約:
【課題】ターゲットを露光するための方法およびシステムを提供する。【解決手段】発明は、複数のビームレットによってターゲットを露光する方法に関する。最初に、複数のビームレットが供給される。ビームレットはアレイに配列される。さらに、露光されるべきターゲットが供給される。続いて、複数のビームレットとターゲットの間に第一の方向の相対移動が作り出される。最後に、複数のビームレットが第二の方向に移動され、各ビームレットがターゲット上の複数の走査線を露光する。第一の方向の相対移動と複数のビームレットの第二の方向の移動は、複数のビームレットによって露光される隣接走査線の間の距離が、アレイ中の複数のビームレットのビームレット間の第一の方向の投影ピッチPproj,Xよりも小さくなるようになっている。
請求項(抜粋):
複数のビームレットによってターゲットを露光する方法であり、
複数のビームレットを供給することを有し、前記ビームレットはアレイに配列されており、
露光されるべきターゲットを供給することを有し、
前記複数のビームレットと前記ターゲットの間に第一の方向に相対移動を作り出すことを有し、
各ビームレットが前記ターゲット上の複数の平行走査線を露光するように前記複数のビームレットを第二の方向に移動させることを有し、
前記第一の方向の前記相対移動と前記複数のビームレットの前記第二の方向の移動は、前記複数のビームレットによって露光される隣接平行走査線の間の距離が、前記アレイ中の前記複数のビームレットのビームレット間の前記第一の方向の投影ピッチPproj,Xよりも小さくなるようになっている、方法。
IPC (4件):
H01L 21/027
, H01J 37/305
, H01J 37/147
, G03F 7/20
FI (4件):
H01L21/30 541W
, H01J37/305 B
, H01J37/147 C
, G03F7/20 504
Fターム (4件):
2H097AA03
, 5C033GG03
, 5C034BB04
, 5F056AA33
引用特許:
出願人引用 (11件)
-
描画装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平10-374716
出願人:日本電子株式会社, 日本電子システムテクノロジー株式会社
-
電子ビーム露光方法及びそれを用いたデバイス製造方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平8-150986
出願人:キヤノン株式会社
-
電子ビーム露光システム
公報種別:公表公報
出願番号:特願2004-548160
出願人:マッパー・リソグラフィー・アイピー・ビー.ブイ.
全件表示
審査官引用 (11件)
-
電子ビーム露光方法及びそれを用いたデバイス製造方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平8-150986
出願人:キヤノン株式会社
-
描画装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平10-374716
出願人:日本電子株式会社, 日本電子システムテクノロジー株式会社
-
電子ビーム露光システム
公報種別:公表公報
出願番号:特願2004-548160
出願人:マッパー・リソグラフィー・アイピー・ビー.ブイ.
全件表示
前のページに戻る