特許
J-GLOBAL ID：200903068824796199
非常に複雑な超微細リソグラフィ・パターン用マルチビームレーザライタのデータ変換方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
浅村 皓 (外3名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-537581
公開番号（公開出願番号）：特表2001-513219
出願日： 1998年02月26日
公開日（公表日）： 2001年08月28日
要約：
【要約】本発明は、超微細リソグラフィに関し、より詳細には、コンピュータ・ディスプレイ、微小電子デバイスおよび精密フォトエッチング用のフォトマスクの書き込みに関する。また本発明は、ウェハー、光デバイスおよびマルチチップ・モジュールなど各種の電子素子相互接続構造体にも利用することができる。その他、レーザ投写型ディスプレイとともに、印字や図形印刷などにも応用可能である。本発明におけるデータ変換は、最初に幾何学的図形を走査線に切り出して、それらの図形を単純化するステップと、つぎに走査線の変換を、要求場所、すなわち各ビームごとの駆動電子装置のビーム・プロセッサで終了させるステップとの、2つのステップに分割される。考え方としては、可能な限り後で、すなわちビームのところで、できるだけ変換することを利用する、というものである。それより前の段階で必要なことは、データを異なるビームに分離して配布し、ビーム・プロセッサが、そのデータの流れを常に処理できることを確実にするのに十分なようにデータを単純化することである。
請求項（抜粋）：
非常に複雑なパターンを高速かつ正確に感光表面に書き込む方法であって、 並列飛び越し走査線での前記表面を走査する少なくとも2本の変調・結像ビームを与えるステップと、 各ビームに対しデータ変換論理を備えたビーム・プロセッサ・ユニットと前記レーザビームを変調する手段とを与えるステップと、 たとえば、多角形のリストなどの入力フォーマットでプレートに書き込まれる幾何学的図形を含む入力データを与えるステップと、 第1の変換ステップにおいて、たとえばスワスなどの書き込みフィールドに前記入力データを分割するステップと、 第2の変換ステップにおいて、分割されたデータベース内の幾何学的図形を走査線に切り出して、前記走査線に書き込まれるべき幾何学的図形を含む走査リスト、いわゆるセグメントを走査線ごとに発生するとともに、同時に動作するが異なる書き込みフィールドで動作する少なくとも2つの並列プロセッサ、いわゆるセグメンタイザで前記第2の変換ステップを実行するステップと、 前記走査線の飛び越し走査に従って、前記ビーム・プロセッサ・ユニットに前記走査リストを配布するステップと、 第3の変換ステップにおいて、前記ビーム・プロセッサ・ユニット内で前記セグメントの走査リストを前記レーザビームのアナログ出力変調シーケンスに変換するステップと、を備えた方法。
IPC (3件)：
G03F 7/20 505
, H01L 21/027
, H04N 1/113
G03F 7/20 505
, H01L 21/30 529
, H04N 1/04 104 B
