インプリントリソグラフィ装置および方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：稲葉良幸 , 大貫敏史
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-162398
公開番号（公開出願番号）：特開2011-040736
出願日： 2010年07月20日
公開日（公表日）： 2011年02月24日
要約：

【課題】ガスの過剰使用を抑えるインプリントリソグラフィ装置を提供する。【解決手段】装置は、所定量のインプリント可能媒体24が供給された基板22にパターンをインプリントするのに使用されるインプリントテンプレートアレンジメントと、前記基板22を保持するように構成された基板ホルダ20と、ガスを前記チャンバ40内に流入させるインレット42とガスを前記チャンバ40から外へ流出させるアウトレット44とを有するチャンバ40と、を含み、前記チャンバ40は、使用中、ガス雰囲気を含むように構成される。前記チャンバ40の前記インレット42および前記アウトレット44は、ガス循環システムのさらなる構成要素へと接続され、前記ガス循環システム内にガスを動かすように構成されたガス循環ドライバ48、および/または、前記ガスが前記ガス循環システム内を循環する際に前記ガスを浄化するように構成されたガス浄化ユニット50を含む。【選択図】図3

請求項（抜粋）：

所定量のインプリント可能媒体が供給された基板にパターンをインプリントするのに使用されるインプリントテンプレートアレンジメントと、前記基板を保持するように構成された基板ホルダと、チャンバであって、ガスを前記チャンバ内に流入させるインレットとガスをチャンバから外へ流出させるアウトレットとを有するチャンバと、を含み、前記インプリントテンプレートアレンジメントおよび前記基板ホルダは、前記チャンバ内に配置され、前記チャンバは、使用中、ガス雰囲気を含むように構成される、インプリントリソグラフフィ装置

IPC (2件)：

H01L 21/027 , B29C 59/02

FI (2件)：

H01L21/30 502D , B29C59/02 Z

Fターム (12件)：

4F209AF01 , 4F209AG05 , 4F209AH33 , 4F209AH73 , 4F209AM25 , 4F209AM30 , 4F209PA02 , 4F209PB01 , 4F209PN06 , 4F209PN09 , 4F209PQ11 , 5F046AA28

引用特許：

審査官引用 (15件)

微細加工装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2004-192262 出願人：キヤノン株式会社
ガス循環システム
公報種別：公開公報出願番号：特願2001-166096 出願人：株式会社東芝, 株式会社荏原製作所
局所密閉型清浄装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-163247 出願人：高砂熱学工業株式会社

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