真空蒸着装置、真空蒸着方法、および、有機EL表示装置の製造方法

発明者： , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：ポレール特許業務法人
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-258963
公開番号（公開出願番号）：特開2011-105962
出願日： 2009年11月12日
公開日（公表日）： 2011年06月02日
要約：

【課題】大型基板上に膜厚が均一で不純物の少ない薄膜を高速に成膜させ、長時間連続運転可能な真空蒸着装置及び成膜装置を提供する。【解決手段】有機EL層が形成される基板1が蒸着室5内に垂直に設置され、基板1の上には、有機EL層を選択的に蒸着するためのファインメタルマスク4が配置されている。有機EL層の材料となる蒸発源8が蒸着室外に配置されている。ノズルが線状に配置した蒸発ヘッド3と蒸発源8とは軟らかい配管7によって接続している。蒸発ヘッド3を、ノズルの配置方向と直角方向に移動させることによって、基板1に有機EL層を蒸着する。蒸発ヘッド3と蒸発源9とを軟らかい配管7で接続することによって、蒸発ヘッド3のみを移動させることが可能になり、装置の機構を簡略化でき、また、可動機構から発生する不純物による有機EL層の汚染を防止することが出来る。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

内部を排気して真空状態に維持した蒸着室内で表面をマスクで覆った被処理基板の表面に蒸着により薄膜を形成する真空蒸着部を備え、真空に維持された雰囲気中で前記被処理基板を他の真空室間で受け渡しする被処理基板受渡部を有する真空蒸着装置であって、前記真空蒸着部は、線状に配置した複数のノズルを介して蒸発させた材料を前記処理室内に放出させる蒸発ヘッドと、前記蒸着室外に設置して蒸発材料を気化させる蒸発源と、前記被処理基板を前記マスクで覆った状態で保持する基板保持部とを有し、前記蒸発ヘッドと前記蒸発源は蒸着室内配管と蒸着室外配管とを有する配管で接続され、前記蒸着室内配管は柔らかい配管となっており、前記蒸発ヘッドを前記洗浄に配置した複数のノズルの配列方向に対して直角な方向に走査させる蒸発ヘッド移動機構を有することを特徴とする真空蒸着装置。

IPC (3件)：

C23C 14/24 , H05B 33/10 , H01L 51/50

FI (4件)：

C23C14/24 C , C23C14/24 U , H05B33/10 , H05B33/14 A

Fターム (19件)：

3K107AA01 , 3K107BB01 , 3K107BB02 , 3K107CC45 , 3K107EE03 , 3K107GG04 , 3K107GG32 , 4K029AA09 , 4K029AA24 , 4K029BA62 , 4K029BB03 , 4K029CA01 , 4K029DA05 , 4K029DB06 , 4K029DB11 , 4K029DB14 , 4K029DB18 , 4K029DB23 , 4K029HA01

引用特許：

審査官引用 (13件)

有機物蒸着装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2005-239881 出願人：三星エスディアイ株式会社
蒸着装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2006-269085 出願人：東京エレクトロン株式会社
真空容器の汚染防止構造
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-311328 出願人：株式会社荏原製作所

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