特許
J-GLOBAL ID:201103089953476376
半導体レーザ素子
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
▲柳▼川 信
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-246845
公開番号(公開出願番号):特開2001-077478
特許番号:特許第3467435号
出願日: 1999年09月01日
公開日(公表日): 2001年03月23日
請求項(抜粋):
【請求項1】 第1導電型半導体基板上に、少なくとも第1導電型クラッド層、活性層、第2導電型クラッド層を含んでなるダブルヘテロ構造を備え、このダブルヘテロ構造上に少なくとも第2導電型中間層と第2導電型コンタクト層とを含む半導体レーザ素子であって、歪を持ちかつ結晶成長工程で形成される結晶中の水素の拡散を抑制する歪層を前記第2導電型コンタクト層中に有し、前記歪層を素子の全面に形成したことを特徴とする半導体レーザ素子。
IPC (2件):
H01S 5/343
, H01S 5/042 614
FI (2件):
H01S 5/343
, H01S 5/042 614
引用特許:
審査官引用 (11件)
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半導体発光装置とその製造方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平9-235964
出願人:ソニー株式会社
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半導体発光素子
公報種別:公開公報
出願番号:特願平10-314750
出願人:日本電気株式会社
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特開平4-317385
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AlGaInP半導体レーザ素子
公報種別:公開公報
出願番号:特願平5-020245
出願人:日本電気株式会社
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半導体レーザ
公報種別:公開公報
出願番号:特願平6-265696
出願人:日本電気株式会社
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半導体レーザの製造方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平4-335712
出願人:松下電器産業株式会社
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半導体レーザの製造方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平5-202080
出願人:日本電気株式会社
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半導体レーザの製造方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平10-266049
出願人:日本電気株式会社
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半導体レーザ装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平4-094291
出願人:三洋電機株式会社
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半導体装置の製造方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平8-072700
出願人:松下電器産業株式会社
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半導体発光装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平3-346603
出願人:富士通株式会社
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