特許
J-GLOBAL ID：201403092643610342
プラズマクリーニング方法およびプラズマクリーニング装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
河崎 眞一
, 辻本 孝臣
, 石井 和郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-043180
公開番号（公開出願番号）：特開2014-170900
出願日： 2013年03月05日
公開日（公表日）： 2014年09月18日
要約：
【課題】プラズマを利用して回路素子に付着する様々な汚染物を効果的に除去する。【解決手段】ガス導入口およびガス排気口を有する処理空間内に、回路素子を搬入する工程と、ガス排気口に設けられた排気バルブを開度100%に設定して、処理空間内を排気する工程と、処理空間内の圧力が第一設定値に達した後、排気バルブの開度を100%からα%、ただしα<100、に変更するとともに、処理空間内にアルゴンとフルオロカーボンとを含むガスを導入する工程と、ガスが導入された処理空間内の圧力が第二設定値に達した後、処理空間内に高周波電界を発生させ、これにより生成したプラズマにより、回路素子をクリーニングする工程と、を具備する、プラズマクリーニング方法。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
ガス導入口およびガス排気口を有する処理空間内に、汚染物が付着した回路素子を搬入する工程と、
前記ガス排気口に設けられた排気バルブを全開:開度100%に設定して、前記処理空間内を排気する工程と、
前記処理空間内の圧力が第一設定値に達した後、前記排気バルブの開度を100%からα%、ただしα<100、に変更するとともに、前記処理空間内にアルゴンとフルオロカーボンとを含むガスを導入する工程と、
前記ガスが導入された処理空間内の圧力が第二設定値に達した後、前記処理空間内に高周波電界を発生させ、これにより生成したプラズマにより、前記回路素子をクリーニングする工程と、
を具備する、プラズマクリーニング方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L21/304 645C
, H05H1/46 M
5F157AA28
, 5F157AA29
, 5F157AA36
, 5F157AA42
, 5F157AB02
, 5F157AB13
, 5F157AB33
, 5F157AC01
, 5F157AC13
, 5F157BG32
, 5F157BG37
, 5F157BH15
, 5F157BH21
, 5F157CD05
, 5F157CE05
, 5F157CE62
, 5F157CF14
, 5F157CF16
, 5F157CF42
, 5F157CF66
, 5F157CF72
, 5F157CF90
, 5F157DB02
, 5F157DB51
出願人引用 (8件)
全件表示
審査官引用 (11件)
全件表示
前のページに戻る
