ステージシステム、ステージシステムを備えるリソグラフィ装置

発明者： , , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：森下賢樹 , 青木武司
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2015-532350
特許番号：特許第6132917号
出願日： 2013年08月19日
請求項（抜粋）：

【請求項1】可動ステージと、前記可動ステージの位置を測定するエンコーダ型位置測定システムであって、エンコーダビームを放射するエミッタと、前記エンコーダビームと相互作用する第1回折格子と、前記第1回折格子との相互作用後の前記エンコーダビームを検出する検出器と、を有し、前記エンコーダビームは動作中光路に沿って伝搬する、エンコーダ型位置測定システムと、前記光路を少なくとも部分的に含むパージングエリアを包囲するパージングキャップであって、前記第1回折格子と実質的に平行に延びるカバーを有し、前記カバーが前記エンコーダビームの通過を可能にする開口部を有するパージングキャップと、前記パージングエリア内にパージング媒体を供給するパージング媒体供給デバイスと、を備えるステージシステム。

IPC (3件)：

G01B 11/00 ( 200 6.01) , G03F 7/20 ( 200 6.01) , H01L 21/68 ( 200 6.01)

FI (3件)：

G01B 11/00 G , G03F 7/20 521 , H01L 21/68 F

引用特許：

出願人引用 (15件)

光源装置、露光装置、並びにデバイス製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2001-133052 出願人：株式会社ニコン
支持装置、光学装置、露光装置、及びデバイスの製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2003-403213 出願人：株式会社ニコン
変位計測装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2008-250529 出願人：キヤノン株式会社

全件表示

審査官引用 (15件)

特開昭63-313002
光源装置、露光装置、並びにデバイス製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2001-133052 出願人：株式会社ニコン
気圧制御方法および装置、これを用いたレーザ計測装置および露光装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-215987 出願人：株式会社ニコン

全件表示

前のページに戻る