特許
J-GLOBAL ID：201803021085976241
被膜形成方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (5件)：
永井 浩之
, 中村 行孝
, 佐藤 泰和
, 朝倉 悟
, 前川 英明
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-192148
公開番号（公開出願番号）：特開2015-059144
特許番号：特許第6257975号
出願日： 2013年09月17日
公開日（公表日）： 2015年03月30日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 下記の工程:
(1)下記一般式(1):
{式中、
R11はそれぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アルケニル基、シクロアルキル基、アリール基、アルコキシ基、アミノ基、およびアルキルシリル基からなる群から選択される基であり、R11が水素原子以外の基であるとき、1またはそれ以上の、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アミノ基、シリル基、およびアルキルシリル基からなる群から選択される基により置換されていてもよく、
式中のすべてのR11に含まれるアミノ基、およびアルコキシ基の総数が、R11の総数の5%以下であり、
R12は、それぞれ独立に、炭素数1〜8の炭化水素基、または-R13-N-R142(ここで、R13は炭素数1〜5の炭化水素基であり、R14はそれぞれ独立に水素または炭素数1〜3の炭化水素基である)である}
であらわされるポリシロキサンと、ポリシラザンと、有機溶剤とを含んでなり、前記ポリシロキサンのポリスチレン換算重量平均分子量が1,000〜50,000の範囲にあることを特徴とする被膜形成用組成物を、基板上に塗布して塗膜を形成させる塗布工程、および
(2)前記塗膜に光を照射する露光工程
を含んでなることを特徴とする、被膜形成方法。
IPC (4件)：
C09D 183/04 ( 200 6.01)
, C09D 183/14 ( 200 6.01)
, C09D 183/16 ( 200 6.01)
, C08J 7/04 ( 200 6.01)
C09D 183/04
, C09D 183/14
, C09D 183/16
, C08J 7/04 CFD P
出願人引用 (14件)
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審査官引用 (14件)
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