特許
J-GLOBAL ID:202003008537919978 グラフェン基板の製造方法
発明者:
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出願人/特許権者: 代理人 (1件):
特許業務法人グランダム特許事務所
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願2015-231673
公開番号(公開出願番号):特開2017-095327
特許番号:特許第6708397号
出願日: 2015年11月27日
公開日(公表日): 2017年06月01日
請求項(抜粋):
【請求項1】 基板の表面側に、C(炭素)及びグラフェンの形成に利用する触媒金属である第1金属を含む第1層を積層する第1工程と、
前記第1工程後に前記第1層内の前記C(炭素)を表面側に析出させない第2層を前記第1層の表面側に積層する第2工程と、
前記第2工程後に熱処理して前記第1層内の前記C(炭素)を前記第1金属に溶解させる第3工程と、
前記第3工程後に冷却して前記基板と前記第1層との間にグラフェンを形成させる第4工程と、
を備え、
前記第1層は、前記C(炭素)と、前記第1金属とを積層し、
前記第2層は、前記第3工程において、前記C(炭素)と結合して前記第1層との界面にカーバイド層を形成する第2金属を含むことを特徴とするグラフェン基板の製造方法。
IPC (4件):
C01B 32/184 ( 201 7.01)
, C23C 14/06 ( 200 6.01)
, C23C 14/58 ( 200 6.01)
, B32B 9/00 ( 200 6.01)
FI (4件):
C01B 32/184
, C23C 14/06 F
, C23C 14/58 A
, B32B 9/00 A
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