特許
J-GLOBAL ID：202103009376405905

リソグラフィ装置を制御する方法および関連する装置

発明者：
スタールズ、フランク

スタールズ、フランク について


出願人/特許権者：
エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ.

エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ. について


代理人 (2件)： 森下 賢樹 ,  青木 武司
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2020-531102
公開番号（公開出願番号）：特表2021-505957
出願日： 2018年11月15日
公開日（公表日）： 2021年02月18日
要約：
【解決手段】リソグラフィ装置および関連する装置を制御する方法が開示される。この方法は、リソグラフィプロセスにおいて基板に製品構成を提供するよう構成され、最適化データを決定することを含む。最適化データは、リソグラフィプロセスにおいて基板に適用される製品構造および/またはそれらの配置に関連する少なくとも1つの性能パラメータの測定および/またはシミュレーションされたデータを含む。基板への製品構造の提供が決定される前に測定および/またはモデル化された基板固有計測データが決定される。基板固有計測データは、構造が適用されている基板の特性および/または構造が基板に適用されるときのリソグラフィ装置の状態に関連する計測データを含む。この方法はさらに、最適化データおよび基板固有計測データに基づいて、リソグラフィプロセス中のリソグラフィ装置の制御を最適化することを含む。【選択図】図6
請求項（抜粋）：
リソグラフィプロセスにおいて基板に製品構造を提供するように構成されたリソグラフィ装置を制御する方法であって、 前記リソグラフィプロセスにおいて前記基板に適用される製品構造に関連する少なくとも1つの性能パラメータの測定および/またはシミュレーションされたデータを含む最適化データを決定することと、 前記基板に製品構造を提供する前に測定および/またはモデル化された基板固有計測データを決定することであって、前記基板固有計測データは、構造が適用されている前記基板の特性および/または構造が基板に適用されるときの前記リソグラフィ装置の状態に関連する計測データを含む、ことと、 前記最適化データおよび前記基板固有計測データに基づいて、前記リソグラフィプロセス中の前記リソグラフィ装置の制御を最適化することと、 を備える方法。
IPC (2件)：
G03F 7/20 ,  G01B 11/06
FI (2件)：
G03F7/20 521 ,  G01B11/06 G
Fターム (39件)：
2F065AA24 ,  2F065CC19 ,  2F065FF01 ,  2F065FF48 ,  2H197AA05 ,  2H197AA09 ,  2H197AA12 ,  2H197AA24 ,  2H197BA11 ,  2H197CA06 ,  2H197CA07 ,  2H197CA09 ,  2H197CA10 ,  2H197CD12 ,  2H197CD13 ,  2H197CD43 ,  2H197DA02 ,  2H197DA06 ,  2H197DB02 ,  2H197DB03 ,  2H197DB06 ,  2H197DB10 ,  2H197DB11 ,  2H197DB21 ,  2H197DC02 ,  2H197DC06 ,  2H197DC16 ,  2H197EA03 ,  2H197EA05 ,  2H197EA06 ,  2H197EA17 ,  2H197EB05 ,  2H197GA01 ,  2H197HA03 ,  2H197JA05 ,  2H197JA18 ,  2H197JA22 ,  2H197JA23 ,  2H197JA24
引用特許：
審査官引用 (11件)
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