特許
J-GLOBAL ID：201703007083896666

データ処理装置を用いたリソグラフィ装置

発明者：
シュミット-ウィーヴァー,エミル,ピーター

シュミット-ウィーヴァー,エミル,ピーター について

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ヘンケ,ウォルフガング

ヘンケ,ウォルフガング について

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プレンティス,クリストファー

プレンティス,クリストファー について

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スタールズ,フランク

スタールズ,フランク について

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テル,ウィン,テジッボ

テル,ウィン,テジッボ について


出願人/特許権者：
エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ.

エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ. について


代理人 (2件)： 稲葉 良幸 ,  大貫 敏史
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-552539
公開番号（公開出願番号）：特表2017-509016
出願日： 2014年12月17日
公開日（公表日）： 2017年03月30日
要約：
【課題】スループットに悪影響を与えることなく高い解像度のウェーハ高さマップを生成しウェーハレベル位置合わせ性能を向上させる。【解決手段】リソグラフィ装置は、光学投影システムを用いて基板上にパターンを適用する。本装置は、パターン適用の前に基板表面の高さマップを得るための光学レベルセンサ及び関連したプロセッサを含む。コントローラは、パターンを適用する場合に高さマップを用いて投影システムの合焦を制御する。プロセッサは、基板に以前適用された処理に関する情報を用いて基板の少なくとも第1・第2の領域を画定するように、且つ、測定信号を用いて焦点を制御する方法を第1・第2の領域で変動させるように、構成される。例えば光学測定信号から高さ値を計算するためのアルゴリズムを既知の構造及び/又は材料の相違に応じて変動させ得る。特定の領域からの測定値を高さマップの計算から及び/又は合焦での使用から選択的に除外し得る。【選択図】図5
請求項（抜粋）：
光学投影システムを用いて基板上にパターンを適用するためのリソグラフィ装置であって、 前記パターン適用の前に動作可能であり、前記基板における多くの位置で前記基板の表面の高さに関連した測定信号を得る光学レベルセンサと、 前記基板における全ての位置について前記測定信号を局所高さ値に変換することで前記基板の高さマップを導出するプロセッサと、 前記パターンを適用する場合に前記高さマップを用いて前記投影システムの合焦を制御するコントローラと、を含み、 前記プロセッサ及びコントローラが、前記基板に適用された処理に関する情報を用いて前記基板の少なくとも第1及び第2の領域を画定すると共に、前記測定信号を用いて前記投影システムの合焦を制御する方法を領域間で変動させる、リソグラフィ装置。
IPC (2件)：
G03F 9/02 ,  G01B 11/02
FI (2件)：
G03F9/02 H ,  G01B11/02 Z
Fターム (49件)：
2F065AA24 ,  2F065CC17 ,  2F065FF49 ,  2F065GG22 ,  2F065GG23 ,  2F065GG24 ,  2F065HH04 ,  2F065HH12 ,  2F065JJ08 ,  2H197AA06 ,  2H197AA08 ,  2H197AA09 ,  2H197AA10 ,  2H197AA12 ,  2H197AB01 ,  2H197CA03 ,  2H197CA05 ,  2H197CA06 ,  2H197CA08 ,  2H197CA10 ,  2H197CD12 ,  2H197CD15 ,  2H197CD17 ,  2H197CD35 ,  2H197CD44 ,  2H197CD50 ,  2H197DA02 ,  2H197DA03 ,  2H197DB11 ,  2H197DB34 ,  2H197DC05 ,  2H197DC06 ,  2H197DC07 ,  2H197DC08 ,  2H197DC18 ,  2H197EA03 ,  2H197EA05 ,  2H197EA06 ,  2H197EA11 ,  2H197EA15 ,  2H197EA21 ,  2H197EA22 ,  2H197EA30 ,  2H197GA01 ,  2H197GA17 ,  2H197HA03 ,  2H197JA18 ,  2H197JA22 ,  2H197JA23
引用特許：
審査官引用 (15件)
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