特許
J-GLOBAL ID：202103015499474286
マルチ荷電粒子ビーム描画装置及びその調整方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
重野 剛
, 重野 隆之
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-115479
公開番号（公開出願番号）：特開2017-220615
特許番号：特許第6808986号
出願日： 2016年06月09日
公開日（公表日）： 2017年12月14日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 基板を載置する、連続移動可能なステージと、
荷電粒子ビームを放出する放出部と、
複数の開口部が形成され、前記複数の開口部全体が含まれる領域に前記荷電粒子ビームの照射を受け、前記複数の開口部を前記荷電粒子ビームの一部がそれぞれ通過することにより、マルチビームを形成するアパーチャ部材と、
前記アパーチャ部材の複数の開口部を通過したマルチビームのうち、それぞれ対応するビームのオン/オフを切り替えるブランキング偏向を行う複数のブランカが配置されたブランキングプレートと、
ブランキング偏向されたビームを、前記ステージの移動に追従して各ビームの描画位置に偏向する主偏向器と、
前記主偏向器により偏向されたビームを前記ステージ上に設けられたマークに対して走査し、反射する荷電粒子の強度の変化と、前記ステージの位置とから、ビーム位置を検出する検出部と、
前記ブランカによりオンビームを切り替え、該オンビームを前記マークに対して走査し、オンビームのビーム位置から前記ステージ上でのマルチビーム全体像の形状を算出するビーム形状算出部と、
を備え、
前記ビーム形状算出部は、前記主偏向器によるビーム偏向位置に依存したビーム位置のずれ量を表現する多項式であって、前記オンビーム毎に異なる多項式を用いて、前記オンビーム毎に前記主偏向器による偏向領域の形状を補正し、前記偏向領域の形状が補正された前記オンビームを前記マークに対して走査し、前記マルチビーム全体像の形状を算出することを特徴とするマルチ荷電粒子ビーム描画装置。
IPC (3件)：
H01L 21/027 ( 200 6.01)
, G03F 7/20 ( 200 6.01)
, H01J 37/305 ( 200 6.01)
H01L 21/30 541 D
, H01L 21/30 541 W
, G03F 7/20 504
, H01J 37/305 B
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (11件)
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