Pat
J-GLOBAL ID:200903002105390236
シャワープレート、並びにそれを用いたプラズマ処理装置、プラズマ処理方法及び電子装置の製造方法
Inventor:
,
,
,
Applicant, Patent owner:
,
,
Agent (2):
小堀 益
, 堤 隆人
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2006163526
Publication number (International publication number):2007335510
Application date: Jun. 13, 2006
Publication date: Dec. 27, 2007
Summary:
【課題】カバープレートが不要なシャワープレートを提供すること。【解決手段】プラズマ処理装置の処理室102に配置され、処理室102にプラズマを発生させるためにプラズマ励起用ガスを放出するシャワープレート105において、シャワープレート105を一体物とし、このシャワープレート105に、プラズマ処理装置のガス導入ポート110からのプラズマ励起用ガスを導入する横孔111と、この横孔111に連通する縦孔112とを設けた。【選択図】図1
Claim (excerpt):
プラズマ処理装置の処理室に配置され、前記処理室にプラズマを発生させるためにプラズマ励起用ガスを放出するシャワープレートにおいて、
シャワープレートを一体物とし、このシャワープレートに、プラズマ処理装置のガス導入ポートからのプラズマ励起用ガスを導入する横孔と、この横孔に連通してプラズマ励起用ガスを放出するための縦孔とを設けたシャワープレート。
IPC (3):
H01L 21/306
, C23C 16/455
, H01L 21/205
FI (3):
H01L21/302 101G
, C23C16/455
, H01L21/205
F-Term (24):
4K030EA05
, 4K030FA01
, 5F004AA16
, 5F004BA06
, 5F004BA20
, 5F004BB28
, 5F004BB29
, 5F004BC01
, 5F004DA00
, 5F004DA04
, 5F004DA26
, 5F004DB01
, 5F004DB03
, 5F004DB08
, 5F045AA08
, 5F045AB02
, 5F045AC01
, 5F045EF05
, 5F045EF08
, 5F045EF11
, 5F045EH02
, 5F045EH03
, 5F045EH11
, 5F045EH12
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (16)
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プラズマ処理装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-240876
Applicant:東京エレクトロン株式会社, 後藤尚久, 安藤真, 高田潤一, 堀池靖浩
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プラズマ処理装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-094275
Applicant:大見忠弘, 東京エレクトロン株式会社
-
プラズマ処理装置用シャワープレートおよびその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2003-016238
Applicant:三菱マテリアル株式会社
-
プラズマ処理装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-297143
Applicant:東京エレクトロン株式会社
-
特開平3-072080
-
高密度プラズマCVD及びエッチングリアクタ
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-203633
Applicant:アプライドマテリアルズインコーポレイテッド
-
回転サセプタを用いた低温プラズマエンハンス化学気相成長法による薄膜形成方法及び装置
Gazette classification:公表公報
Application number:特願平8-500805
Applicant:マテリアルズリサーチコーポレーション
-
原料またはガスの供給装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-301013
Applicant:富士通株式会社
-
化学気相堆積用リアクタ
Gazette classification:公表公報
Application number:特願2000-531602
Applicant:アプライドマテリアルズインコーポレイテッド
-
ガスおよびRF(無線周波数)出力を反応室に供給するための積重ねられたシャワヘッド組立体
Gazette classification:公表公報
Application number:特願平11-551816
Applicant:東京エレクトロン株式会社
-
シャワープレート、シャワープレート周辺構造及びプロセス装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-097978
Applicant:大見忠弘, 株式会社ウルトラクリーンテクノロジー開発研究所
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基板処理装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-230208
Applicant:国際電気株式会社
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ガス処理装置、バッフル部材、及びガス処理方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-100341
Applicant:東京エレクトロン株式会社
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プラズマプロセス装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-339785
Applicant:大見忠弘, シャープ株式会社
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プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-371977
Applicant:株式会社東芝
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誘電性ギャップ充填のためのプロセスチャンバ
Gazette classification:公表公報
Application number:特願2009-513438
Applicant:アプライドマテリアルズインコーポレイテッド
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Cited by examiner (2)
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プラズマ処理装置用シャワープレートおよびその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2003-016238
Applicant:三菱マテリアル株式会社
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プラズマ処理装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-297143
Applicant:東京エレクトロン株式会社
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