シャワープレート、並びにそれを用いたプラズマ処理装置、プラズマ処理方法及び電子装置の製造方法

Inventor： , , ,
Applicant, Patent owner： , ,
Agent (2)：小堀益 , 堤隆人
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2006163526
Publication number (International publication number)：2007335510
Application date： Jun. 13, 2006
Publication date： Dec. 27, 2007
Summary：

【課題】カバープレートが不要なシャワープレートを提供すること。【解決手段】プラズマ処理装置の処理室102に配置され、処理室102にプラズマを発生させるためにプラズマ励起用ガスを放出するシャワープレート105において、シャワープレート105を一体物とし、このシャワープレート105に、プラズマ処理装置のガス導入ポート110からのプラズマ励起用ガスを導入する横孔111と、この横孔111に連通する縦孔112とを設けた。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

プラズマ処理装置の処理室に配置され、前記処理室にプラズマを発生させるためにプラズマ励起用ガスを放出するシャワープレートにおいて、シャワープレートを一体物とし、このシャワープレートに、プラズマ処理装置のガス導入ポートからのプラズマ励起用ガスを導入する横孔と、この横孔に連通してプラズマ励起用ガスを放出するための縦孔とを設けたシャワープレート。

IPC (3)：

H01L 21/306 , C23C 16/455 , H01L 21/205

FI (3)：

H01L21/302 101G , C23C16/455 , H01L21/205

F-Term (24)：

4K030EA05 , 4K030FA01 , 5F004AA16 , 5F004BA06 , 5F004BA20 , 5F004BB28 , 5F004BB29 , 5F004BC01 , 5F004DA00 , 5F004DA04 , 5F004DA26 , 5F004DB01 , 5F004DB03 , 5F004DB08 , 5F045AA08 , 5F045AB02 , 5F045AC01 , 5F045EF05 , 5F045EF08 , 5F045EF11 , 5F045EH02 , 5F045EH03 , 5F045EH11 , 5F045EH12

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (2)

プラズマ処理装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-240876 Applicant：東京エレクトロン株式会社, 後藤尚久, 安藤真, 高田潤一, 堀池靖浩
プラズマ処理装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2001-094275 Applicant：大見忠弘, 東京エレクトロン株式会社

Cited by examiner (2)

プラズマ処理装置用シャワープレートおよびその製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2003-016238 Applicant：三菱マテリアル株式会社
プラズマ処理装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-297143 Applicant：東京エレクトロン株式会社

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