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J-GLOBAL ID：200903022865402006

レジスト用重合体

Inventor：
百瀬 陽

About 百瀬 陽

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大竹 敦

About 大竹 敦

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三橋 隆史

About 三橋 隆史

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上田 昭史

About 上田 昭史


Applicant, Patent owner：
三菱レイヨン株式会社

About 三菱レイヨン株式会社


Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2004295585
Publication number (International publication number)：2006052373
Application date： Oct. 08, 2004
Publication date： Feb. 23, 2006
Summary：
【課題】 本発明は、DUVエキシマレーザーリソグラフィーあるいは電子線リソグラフィー等においてレジスト組成物として用いた場合に、高感度、高解像度であり、ドライエッチング耐性が高く、現像時のディフェクトが少ないレジスト用重合体、レジスト組成物、および、このレジスト組成物を用いたパターン製造方法を提供することを目的とする。【解決手段】 特定のラクトン骨格を有する構成単位(A)と、特定の酸脱離性基を有する構成単位(B)と、特定の親水性基を有する脂環構造を含む構成単位(C)を含有するレジスト用重合体であって、分子鎖末端の少なくとも一つが下記式(1-1)〜(1-4)からなる群より選ばれる少なくとも一種であるレジスト用重合体。【化1】【選択図】 なし
Claim (excerpt)：
下記式(4-1)〜(4-6)および(4-10)からなる群より選ばれる少なくとも1種であるラクトン骨格を有する構成単位(A)と、 下記式(3-1-1)、(3-2-1)、(3-3-1)、(3-4-1)、(3-5-1)、(3-6-1)および(3-7-1)からなる群より選ばれる少なくとも1種である酸脱離性基を有する構成単位(B)と、 下記式(5-1)〜(5-7)からなる群より選ばれる少なくとも1種である親水性基を有する脂環構造を含む構成単位(C)と、 を含有するレジスト用重合体であって、分子鎖末端の少なくとも一つが下記式(1-1)〜(1-4)からなる群より選ばれる少なくとも一種であるレジスト用重合体。
IPC (4)：
C08F 220/28 ,  G03F 7/033 ,  G03F 7/039 ,  H01L 21/027
FI (4)：
C08F220/28 ,  G03F7/033 ,  G03F7/039 601 ,  H01L21/30 502R
F-Term (28)：
2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AA04 ,  2H025AA09 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025CB08 ,  2H025CB14 ,  2H025CB41 ,  2H025CB45 ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100AL08R ,  4J100BA02P ,  4J100BA03R ,  4J100BA40R ,  4J100BC04P ,  4J100BC07R ,  4J100BC08R ,  4J100BC09P ,  4J100BC09R ,  4J100BC53Q ,  4J100CA05 ,  4J100DA01 ,  4J100DA05 ,  4J100JA38
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (4)
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Cited by examiner (9)
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