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J-GLOBAL ID:200903027830929585
欠陥検査方法及びその装置
Inventor:
,
,
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
井上 学
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2005013472
Publication number (International publication number):2006201044
Application date: Jan. 21, 2005
Publication date: Aug. 03, 2006
Summary:
【課題】 異物欠陥検査装置で、光検出器としてCCDセンサを用いる場合、光電変換により内部に発生した信号電荷を電圧に変換して読み出す際に電気的なノイズが発生し、微小な異物や欠陥からの反射散乱光を検出して得られる微弱な検出信号が電気的なノイズに埋もれてしまい、より微小な異物や欠陥を検出する上で障害となっていた。【解決手段】 光検出器として電子増倍型CCDセンサを用い、光電変換によって生じた電子を増倍した後に読み出すことにより、電気的なノイズに対して入力光による信号が相対的に大きくなるようにして、従来のCCDと比較してより微弱な光を検出することを可能にし、従来と比べて、より微小な異物や欠陥を検出できるようにした。【選択図】 図1
Claim (excerpt):
パターンが形成された被検査物に光を斜め方向から照射する照明手段と、
該照明手段によって光を照射された前記被検査物からの反射散乱光を受光して検出する固体撮像素子を有する検出光学系手段と、
IPC (4):
G01N 21/956
, H01L 21/66
, H04N 5/335
, H01L 27/148
FI (4):
G01N21/956 A
, H01L21/66 J
, H04N5/335 F
, H01L27/14 B
F-Term (35):
2G051AA51
, 2G051AB01
, 2G051AB02
, 2G051BA05
, 2G051BA08
, 2G051BA10
, 2G051BB01
, 2G051BB07
, 2G051CA04
, 2G051CB05
, 2G051CC07
, 2G051DA05
, 2G051EA12
, 2G051EA14
, 2G051EA24
, 2G051EB01
, 2G051ED11
, 4M106AA01
, 4M106CA39
, 4M106DB04
, 4M106DB19
, 4M118AA01
, 4M118AB01
, 4M118BA10
, 4M118CA17
, 4M118CB05
, 4M118FA06
, 4M118FA42
, 4M118GA02
, 4M118GD03
, 5C024CX41
, 5C024CY44
, 5C024GY01
, 5C024HX47
, 5C024JX37
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (1)
Cited by examiner (15)
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撮像装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-354841
Applicant:浜松ホトニクス株式会社
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特公平7-086465
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微小異物解析方法、分析装置、半導体装置の製造方法および液晶表示装置の製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-375963
Applicant:三菱電機株式会社
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内視鏡装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-143541
Applicant:オリンパス光学工業株式会社
-
欠陥検査装置およびその方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2004-146031
Applicant:株式会社日立製作所, 日立ハイテク電子エンジニアリング株式会社
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パターン欠陥検査方法及びその装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-231382
Applicant:株式会社日立製作所
-
外観検査装置および外観検査方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2002-165526
Applicant:日立化成工業株式会社
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表面検査方法及び検査装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-152214
Applicant:浜松ホトニクス株式会社
-
異物検査方法および装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-006620
Applicant:株式会社日立製作所, 日立電子エンジニアリング株式会社
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表面の異常を検査するための走査システム
Gazette classification:公表公報
Application number:特願平8-517819
Applicant:テンカーインスツルメンツ
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表面検査装置およびその方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-068593
Applicant:株式会社日立製作所, 日立電子エンジニアリング株式会社
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レーザ欠陥検出機能を備えた走査型電子顕微鏡におけるCCDカメラ自動切替方式
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-184696
Applicant:セイコーインスツルメンツ株式会社
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表面分析装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-330064
Applicant:セイコーインスツルメンツ株式会社, 三菱電機株式会社
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蛍光画像取得方法および装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-328413
Applicant:富士写真フイルム株式会社
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異物検査装置およびその方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-110190
Applicant:株式会社日立製作所, 株式会社日立画像情報システム
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