Pat
J-GLOBAL ID:200903006920783922
遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物
Inventor:
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
萩野 平 (外4名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1998327055
Publication number (International publication number):2000181054
Application date: Nov. 17, 1998
Publication date: Jun. 30, 2000
Summary:
【要約】【課題】 有機溶媒に溶解したとき、樹脂に対する相溶性が良好で、その溶液の経時安定性が優れ、かつ遠紫外光、とくにArFエキシマレーザー光に対して、感度が優れたポジ型フォトレジスト組成物を提供すること。【解決手段】 活性光線または放射線の照射により、スルホン酸を発生する特定の構造の化合物 、及び特定の構造の脂環式炭化水素を含む部分構造のうち少なくとも1つで保護されたアルカリ可溶性基を含み、酸の作用により分解しアルカリに対する溶解性が増加する樹脂を含有する遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物。
Claim (excerpt):
活性光線または放射線の照射により、スルホン酸を発生する下記一般式(I)または(II)で表される化合物 、及び下記一般式(pI)〜(pVI)で表される脂環式炭化水素を含む部分構造のうち少なくとも1つで保護されたアルカリ可溶性基を含み、酸の作用により分解しアルカリに対する溶解性が増加する樹脂を含有することを特徴とする遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物。【化1】式(I)、(II)中、R1 〜R5 はそれぞれ水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいシクロアルキル基、置換基を有していてもよいアルコキシ基、置換基を有していてもよいアルコキシカルボニル基、置換基を有していてもよいアシル基、置換基を有していてもよいアシロキシ基、ニトロ基、ハロゲン原子、水酸基、カルボキシル基を表す。a:1〜5、b:1〜5、l:1〜5、m:0〜5、n:0〜5を表す。但し、R1 、R2 の少なくとも一方は、炭素数5個以上の、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいシクロアルキル基、置換基を有していてもよいアルコキシ基、置換基を有していてもよいアルコキシカルボニル基、置換基を有していてもよいアシル基、置換基を有していてもよいアシロキシ基を表す。l+m+n=1の時、R3 は置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいシクロアルキル基、置換基を有していてもよいアルコキシ基、置換基を有していてもよいアルコキシカルボニル基、置換基を有していてもよいアシル基、置換基を有していてもよいアシロキシ基を表す。X:R-SO3 、R:置換基を有していてもよい脂肪族炭化水素基、置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基を表す。【化2】式中、R11は、メチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、イソブチル基又はsec-ブチル基を表し、Zは、炭素原子とともに脂環式炭化水素基を形成するのに必要な原子団を表す。R12〜R16は、各々独立に、炭素数1〜4個の、直鎖もしくは分岐のアルキル基又は脂環式炭化水素基を表し、但し、R12〜R14のうち少なくとも1つ、もしくはR15、R16のいずれかは脂環式炭化水素基を表す。R17〜R21は、各々独立に、水素原子、炭素数1〜4個の、直鎖もしくは分岐のアルキル基又は脂環式炭化水素基を表し、但し、R17〜R21のうち少なくとも1つは脂環式炭化水素基を表す。また、R19、R21のいずれかは炭素数1〜4個の、直鎖もしくは分岐のアルキル基又は脂環式炭化水素基を表す。R22〜R25は、各々独立に、炭素数1〜4個の、直鎖もしくは分岐のアルキル基又は脂環式炭化水素基を表し、但し、R22〜R25のうち少なくとも1つは脂環式炭化水素基を表す。
IPC (3):
G03F 7/004 503
, G03F 7/039 601
, H01L 21/027
FI (3):
G03F 7/004 503 A
, G03F 7/039 601
, H01L 21/30 502 R
F-Term (12):
2H025AA00
, 2H025AA01
, 2H025AA02
, 2H025AB16
, 2H025AC04
, 2H025AC08
, 2H025AD03
, 2H025BE07
, 2H025BE10
, 2H025CB14
, 2H025CB41
, 2H025CB52
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (15)
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遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-053583
Applicant:富士写真フイルム株式会社
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ポジ型感光性組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-250518
Applicant:富士写真フイルム株式会社
-
ポジ型シリコーンレジスト材料
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-187885
Applicant:日本電信電話株式会社
-
化学増幅ポジ型レジスト材料
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-152655
Applicant:信越化学工業株式会社, 日本電信電話株式会社
-
新規オニウム塩およびそれを含有する感放射線性樹脂 組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-358730
Applicant:日本合成ゴム株式会社
-
特開平4-219757
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レジスト材料及びレジストパターンの形成方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-050264
Applicant:富士通株式会社
-
レジスト組成物及びレジストパターンの形成方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-312722
Applicant:富士通株式会社
-
レジスト材料及びレジストパターンの形成方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-320105
Applicant:富士通株式会社
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化学増幅型ポジ型レジスト組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-012406
Applicant:住友化学工業株式会社
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遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-212878
Applicant:富士写真フイルム株式会社
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ポジ型フォトレジスト組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-063366
Applicant:富士写真フイルム株式会社
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ポジ型フォトレジスト組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-032431
Applicant:富士写真フイルム株式会社
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ポジ型感光性組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-024011
Applicant:富士写真フイルム株式会社
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パターン形成材料
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-351957
Applicant:信越化学工業株式会社
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