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J-GLOBAL ID：200903043144536904

反射防止膜材料

Inventor：
渡辺 聡

About 渡辺 聡

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名倉 茂広

About 名倉 茂広

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石原 俊信

About 石原 俊信


Applicant, Patent owner：
信越化学工業株式会社

About 信越化学工業株式会社


Agent (1)： 好宮 幹夫
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998189867
Publication number (International publication number)：2000010294
Application date： Jun. 19, 1998
Publication date： Jan. 14, 2000
Summary：
【要約】【課題】 成膜性、塗布性等が良く、微細で寸法精度及び合わせ精度が高く、簡便で生産性が高く、再現性良くレジストパターンを形成することができるレジスト上層、特に化学増幅ポジ型レジスト上層の反射防止膜として、さらにレジスト表面の過剰な酸による膜減りを起こさず且つ酸の失活も引き起こさないため上記PEDの問題も起こらずそれ故、特に化学増幅型レジストの場合には保護膜としても機能するpH2〜4のレジスト上層の材料を、フロンを使用することなく提供する。【解決手段】 a)水溶性ポリマーと、b)少なくとも1種のフルオロアルキルスルホン酸と、c)少なくとも1種のアルカノールアミンと、d)少なくとも1種のアミド誘導体を含む水溶液からなることを特徴とする反射防止膜材料。
Claim (excerpt)：
a)水溶性ポリマーと、b)少なくとも1種のフルオロアルキルスルホン酸と、c)少なくとも1種のアルカノールアミンと、d)少なくとも1種のアミド誘導体を含む水溶液からなることを特徴とする反射防止膜材料。
IPC (7)：
G03F 7/11 503 ,  C08K 5/17 ,  C08K 5/20 ,  C08K 5/42 ,  C08L 39/06 ,  C08L101/14 ,  H01L 21/027
FI (7)：
G03F 7/11 503 ,  C08K 5/17 ,  C08K 5/20 ,  C08K 5/42 ,  C08L 39/06 ,  C08L101/14 ,  H01L 21/30 574
F-Term (31)：
2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AA03 ,  2H025AB14 ,  2H025AB16 ,  2H025AB20 ,  2H025AC01 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE10 ,  2H025BJ00 ,  2H025CB53 ,  2H025CC20 ,  2H025DA14 ,  2H025DA34 ,  4J002BJ001 ,  4J002EN107 ,  4J002EP018 ,  4J002ES007 ,  4J002EU027 ,  4J002EU028 ,  4J002EU037 ,  4J002EU038 ,  4J002EU077 ,  4J002EU118 ,  4J002EU138 ,  4J002EV236 ,  4J002GP03 ,  4J002HA04 ,  5F046PA07
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (11)
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