プラズマ処理装置

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：佐藤一雄 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997300593
Publication number (International publication number)：1999135485
Application date： Oct. 31, 1997
Publication date： May. 21, 1999
Summary：

【要約】【課題】放電管のエッチングを抑制し得るプラズマ処理装置を提供する。【解決手段】誘電体で形成された放電管6の内部に反応性ガスを導入し、前記放電管6の内部の前記反応性ガスに導波管8を介してマイクロ波を照射してプラズマを発生させるようにしたプラズマ処理装置である。前記放電管6の熱を液状誘電体21に伝達して除去するようにした放電管冷却手段20を備えている。

Claim (excerpt)：

誘電体で形成された放電管の内部に反応性ガスを導入し、前記放電管の内部の前記反応性ガスに導波管を介してマイクロ波を照射してプラズマを発生させるようにしたプラズマ処理装置において、前記放電管の熱を液状誘電体に伝達して除去するようにした放電管冷却手段を備えていることを特徴とするプラズマ処理装置。

IPC (3)：

H01L 21/3065 , C23F 4/00 , H05H 1/46

FI (3)：

H01L 21/302 B , C23F 4/00 D , H05H 1/46 B

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (10)

マイクロ波プラズマ・システム用の液体冷却マイクロ波プラズマ・アプリケータおよび液体冷却誘電体窓
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-262200 Applicant：アプライド・サイエンス・アンド・テクノロジー・インコーポレイテッド
マイクロ波プラズマベースアプリケータ
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-180751 Applicant：アプライドマテリアルズインコーポレイテッド
半導体ウエハの上面及び側壁からのポリマー除去
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-310871 Applicant：アプライドマテリアルズインコーポレイテッド

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Cited by examiner (5)

マイクロ波プラズマ・システム用の液体冷却マイクロ波プラズマ・アプリケータおよび液体冷却誘電体窓
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-262200 Applicant：アプライド・サイエンス・アンド・テクノロジー・インコーポレイテッド
マイクロ波プラズマベースアプリケータ
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-180751 Applicant：アプライドマテリアルズインコーポレイテッド
半導体ウエハの上面及び側壁からのポリマー除去
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-310871 Applicant：アプライドマテリアルズインコーポレイテッド

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