フォーカスモニタ用マスクの製造方法及び半導体装置の製造方法

Inventor： , , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (6)：鈴江武彦 , 河野哲 , 中村誠 , 蔵田昌俊 , 村松貞男 , 橋本良郎
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2003122339
Publication number (International publication number)：2004327831
Application date： Apr. 25, 2003
Publication date： Nov. 18, 2004
Summary：

【課題】荷電ビームを用いて高精度のモニタマークを短時間で形成することが可能なフォーカスモニタ用マスクの製造方法を提供する。【解決手段】透光性基板1の表面領域に、第1の開口部と、第1の開口部に対応したパターン形状を有し且つ透光性基板上のハーフトーン膜2とハーフトーン膜上の遮光膜3との積層膜に囲まれた第2の開口部21と、を形成する工程と、第2の開口部のエッジの部分、第2の開口部の内側の部分及び第2の開口部の外側の部分を含む第1の領域に荷電ビーム52を照射して、第2の開口部の内側の透光性基板をエッチングする工程と、を備える。【選択図】図7

Claim (excerpt)：

透光性基板の表面領域に、第1の開口部と、前記第1の開口部に対応したパターン形状を有し且つ前記透光性基板上のハーフトーン膜と該ハーフトーン膜上の遮光膜との積層膜に囲まれた第2の開口部と、を形成する工程と、前記第2の開口部のエッジの部分、前記第2の開口部の内側の部分及び前記第2の開口部の外側の部分を含む第1の領域に荷電ビームを照射して、第2の開口部の内側の透光性基板をエッチングする工程と、を備えたことを特徴とするフォーカスモニタ用マスクの製造方法。

IPC (3)：

H01L21/027 , G03F1/08 , G03F7/20

FI (3)：

H01L21/30 526A , G03F1/08 A , G03F7/20 504

F-Term (8)：

2H095BA08 , 2H095BB03 , 2H097AA03 , 2H097CA16 , 2H097LA10 , 5F046AA25 , 5F046BA03 , 5F046DA14

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (13)

フォーカスモニタ用マスク及びフォーカスモニタ方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平11-274701 Applicant：株式会社東芝
半導体製造装置の制御方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2001-097115 Applicant：株式会社東芝
フォトマスク修正方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-217039 Applicant：日立電子エンジニアリング株式会社, 株式会社日立製作所

Show all

Cited by examiner (13)

フォーカスモニタ用マスク及びフォーカスモニタ方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平11-274701 Applicant：株式会社東芝
半導体製造装置の制御方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2001-097115 Applicant：株式会社東芝
フォトマスク修正方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-217039 Applicant：日立電子エンジニアリング株式会社, 株式会社日立製作所

Show all

Return to Previous Page