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J-GLOBAL ID：200903058569420877

単一位相流体インプリント・リソグラフィ法

Inventor： マックマッキン,イアン・エム ,  バブス,ダニエル・エイ ,  ボース,ドゥアン・ジェイ ,  ワッツ,マイケル・ピイ・シイ ,  トルスケット,バン・エヌ ,  シュ,フランク・ワイ ,  ボイシン,ロナルド・ディ ,  ラド,パンカジ・ビイ ,  ステイシー,ニコラス・エイ
Applicant, Patent owner： モレキュラー・インプリンツ・インコーポレーテッド ,  ボード・オブ・リージエンツ,ザ・ユニバーシテイ・オブ・テキサス・システム
Agent (2)： 山川 政樹 ,  山川 茂樹
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：2006533980
Publication number (International publication number)：2007509769
Application date： Sep. 24, 2004
Publication date： Apr. 19, 2007
Summary：

本発明は、基板上に付着した粘性液体層に存在するガス・ポケットを大幅に減少させることによって、インプリンティング層におけるパターン歪みを軽減する方法を対象とする。そのため、この方法には、粘性液体に近接した位置にあるガスの輸送を変更するステップが含まれている。すなわち、パターンが記録されることになる基板に近接した大気が、付着している粘性液体に対して、溶解性が高いか、拡散性が高いか、あるいは、その両方であるガスで飽和させられる。大気の飽和に加えて、又は、その代わりに、大気圧を低下させることも可能である。【選択図】図2

Claim (excerpt)：

基板に付着した粘性液体層に存在するガスを減少させるための方法であって、 前記粘性液体中における前記ガスの輸送を増すために、前記粘性液体に近接したガスの組成を変更するステップを含む方法。

IPC (3)：

B29C 59/02 ,  H01L 21/027 ,  G03F 7/20

FI (3)：

B29C59/02 Z ,  H01L21/30 502D ,  G03F7/20 501

F-Term (20)：

2H097AA20 ,  2H097LA10 ,  2H097LA15 ,  2H097LA20 ,  4F209AA36 ,  4F209AC05 ,  4F209AF01 ,  4F209AG05 ,  4F209AG21 ,  4F209AG28 ,  4F209AM25 ,  4F209AM30 ,  4F209PA02 ,  4F209PB01 ,  4F209PC01 ,  4F209PC05 ,  4F209PN09 ,  4F209PN13 ,  5F046AA28 ,  5F046DA27

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (2)

• 米国特許第6,334,960号明細書
  
• 米国特許第5,772,905号明細書
  

Cited by examiner (15)

• 微細パターンの製造方法および転写材料
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2002-231139   Applicant：鐘淵化学工業株式会社
• 特開平2-092603
  
• 物品の面をスタンピングするための装置および方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-048498   Applicant：モトローラ・インコーポレイテッド
• 固体表面を液状配合物で被覆する方法
  Gazette classification：公表公報   Application number：特願2000-557927   Applicant：ミリポア・コーポレイション
• 加工方法、磁気転写方法及び記録媒体
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2001-358062   Applicant：株式会社東芝
• 微細造作を有するデバイスの液体エンボス加工による製造
  Gazette classification：公表公報   Application number：特願2001-523922   Applicant：マサチューセッツ・インスティテュート・オブ・テクノロジー
• インプリント・リソグラフィのための高精度方向付けアライメントデバイスおよびギャップ制御デバイス
  Gazette classification：公表公報   Application number：特願2001-535125   Applicant：ボード・オブ・リージエンツ,ザ・ユニバーシテイ・オブ・テキサス・システム
• インプリント方法及び装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2002-263534   Applicant：独立行政法人産業技術総合研究所
• 転写リソグラフィ・プロセスのための自動液体ディスペンス方法およびシステム
  Gazette classification：公表公報   Application number：特願2002-512749   Applicant：ボード・オブ・リージエンツ,ザ・ユニバーシテイ・オブ・テキサス・システム
• 流体圧力インプリント・リソグラフィ
  Gazette classification：公表公報   Application number：特願2002-513006   Applicant：ナノネックスコーポレーション, チヨウ,スティーヴン,ワイ.
• 転写リソグラフィのための高分解能オーバレイ・アライメント方法およびシステム
  Gazette classification：公表公報   Application number：特願2002-514472   Applicant：ボード・オブ・リージエンツ,ザ・ユニバーシテイ・オブ・テキサス・システム
• 室温かつ低圧マイクロおよびナノ転写リソグラフィのためのテンプレート
  Gazette classification：公表公報   Application number：特願2002-566722   Applicant：ボード・オブ・リージエンツ,ザ・ユニバーシテイ・オブ・テキサス・システム
• 界誘導圧力インプリント・リソグラフィの方法および装置
  Gazette classification：公表公報   Application number：特願2004-507045   Applicant：チョウ,スティーヴン,ワイ., ツァン,ウエイ
• 多層リソグラフィープロセスに関する新規な平坦化方法
  Gazette classification：公表公報   Application number：特願2003-571794   Applicant：ブルーワーサイエンスアイエヌシー.
• インプリント・リソグラフィの散乱計測アラインメント
  Gazette classification：公表公報   Application number：特願2004-526254   Applicant：モレキュラー・インプリンツ・インコーポレーテッド

Article cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

• 光ナノインプリントリソグラフィによるナノ加工