転写リソグラフィ・プロセスのための自動液体ディスペンス方法およびシステム

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Applicant, Patent owner：
Agent (1)：山川政樹
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：2002512749
Publication number (International publication number)：2004504714
Application date： Jul. 17, 2001
Publication date： Feb. 12, 2004
Summary：

平板状の物質または転写リソグラフィ・プロセス用の半導体ウエハを含む基板の表面に液体をディスペンスする自動液体ディスペンス方法とシステムが開示されている。本ディスペンス方法は液体ディスペンサ・チップと基板との間の相対的な動きを生成する基板ステージと液体ディスペンサを使用する。さらに、パターン化されていない平坦なテンプレートを用いて基板表面を平坦にする方法と装置も開示されている。

Claim (excerpt)：

パターン化されたテンプレートを使用して、基板上にパターンを形成する方法であって、活性化光硬化液が所定のパターンで基板に塗布され、かつ、基板上の活性化光硬化液の表面積が、パターン化されたテンプレートの表面積より小さくなるように、基板の一部に活性化光硬化液を塗布するステップと、塗布された活性化光硬化液がギャップを実質的に充填するようにパターン化されたテンプレートが基板に対して間隔を隔てて配置され、パターン化されたテンプレートと基板の間にギャップが生成されるよう、パターン化されたテンプレートと基板を互いに間隔を隔てて位置決めするステップと、活性化光硬化液が実質的に硬化し、硬化した活性化光硬化液中に、パターン化されたテンプレートのパターンが形成されるように、活性化光硬化液に活性化光を照射するステップと、パターン化されたテンプレートと硬化した活性化光硬化液を分離するステップとを含む方法。

IPC (1)：

H01L21/027

FI (1)：

H01L21/30 502D

F-Term (1)：

5F046AA28

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (26)

特開昭52-026171
特開昭58-082726
特開昭61-137246

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Cited by examiner (26)

特開昭52-026171
光学記録媒体の製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-249273 Applicant：ソニー株式会社
特開平2-289311

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Article cited by the Patent：

Cited by applicant (2)

Cited by examiner (2)

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