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J-GLOBAL ID：200903059313188779

偏光制御素子、偏光制御装置

Inventor：
三宮 俊

About 三宮 俊

, 
福田 浩章

About 福田 浩章


Applicant, Patent owner：
株式会社リコー

About 株式会社リコー


Agent (2)： 武井 秀彦 ,  吉村 康男
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2008069098
Publication number (International publication number)：2009223123
Application date： Mar. 18, 2008
Publication date： Oct. 01, 2009
Summary：
【課題】偏光制御効率を向上させ、偏光特性の調整が可能であり、動作波長帯域の調整が可能であり、外的な損傷に強い偏光制御素子を提供すること。【解決手段】支持体上または支持体内部に、入射光の波長より小さなサイズの複数個の金属構造体と、入射光の波長より小さなサイズの複数個の開口部を有する金属膜を少なくとも有し、金属膜の開口部と、2個以上の金属構造体からなるユニットを、2次元的に配置するとともに、該ユニットに含まれる2個以上の金属構造体は、同一形状ならびに同一の大きさであり、該金属構造体の大きさよりも近接して配置することを特徴とする偏光制御素子。【選択図】図1
Claim (excerpt)：
支持体上または支持体内部に、入射光の波長より小さなサイズの複数個の金属構造体と、入射光の波長より小さなサイズの複数個の開口部を有する金属膜を少なくとも有し、金属膜の開口部と、2個以上の金属構造体からなるユニットを、2次元的に配置するとともに、該ユニットに含まれる2個以上の金属構造体は、同一形状ならびに同一の大きさであり、該金属構造体の大きさよりも近接して配置することを特徴とする偏光制御素子。
IPC (2)：
G02B 5/30 ,  G02F 1/133
FI (2)：
G02B5/30 ,  G02F1/1335 510
F-Term (25)：
2H149AA02 ,  2H149AB01 ,  2H149BA02 ,  2H149DA02 ,  2H149DA13 ,  2H149DB38 ,  2H149EA05 ,  2H149FA41Y ,  2H149FA41Z ,  2H149FC07 ,  2H191FA24Z ,  2H191FA28X ,  2H191FA28Z ,  2H191FA29X ,  2H191FA29Z ,  2H191FA30X ,  2H191FA30Z ,  2H191FA31Z ,  2H191FB13 ,  2H191FB14 ,  2H191FC03 ,  2H191FC36 ,  2H191MA11 ,  2H191PA44 ,  2H191PA81
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (21)
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Cited by examiner (4)
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