プラズマ処理装置

Inventor： , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (2)：渡辺望稔 , 三和晴子
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2004098109
Publication number (International publication number)：2005285564
Application date： Mar. 30, 2004
Publication date： Oct. 13, 2005
Summary：

【課題】基板にプラズマ処理を施すプラズマ処理装置において、大面積の基板にプラズマ処理を行う場合でも、プラズマを安定して生成し、均一なプラズマ処理を実現する。【解決手段】原料ガスを導入してプラズマを生成するチャンバ14の外側に、電磁波を放射する導体線が略同一長さで同一形状に巻き廻されたコイルアンテナ20が、チャンバ14の外側の異なる領域にアレイ状に複数個配置されている。これらの複数のコイルアンテナ20に同位相の高周波電力を給電する。コイルアンテナ20の導体線の長さは、高周波電力が信号として伝搬するときの伝搬波長の7分の1以下である。また、複数のコイルアンテナ20は、チャンバ14に隣接して設けられたアンテナ収容室16に配置され、複数のコイルアンテナ20は、導電性板材22によって互いに隔てられている。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

プラズマを用いて基板にプラズマ処理を行うプラズマ処理装置であって、原料ガスを導入してプラズマを生成するチャンバと、前記チャンバの外側に設けられ、高周波電力を与えることにより前記チャンバに導入した原料ガスからプラズマを生成する電磁波を放射する、導体線が巻き廻されたアンテナであって、この導体線が同一形状に巻き廻されて、前記チャンバの外側の異なる領域に平面状に複数配置されたコイルアンテナと、前記複数のコイルアンテナに同位相の高周波電力を給電する1つの高周波電源と、を有することを特徴とするプラズマ処理装置。

IPC (3)：

H05H1/46 , H01L21/205 , H01L21/3065

FI (4)：

H05H1/46 L , H05H1/46 R , H01L21/205 , H01L21/302 101C

F-Term (11)：

5F004AA01 , 5F004BA20 , 5F004BB18 , 5F004BB32 , 5F004BD04 , 5F004BD05 , 5F045AA08 , 5F045BB01 , 5F045DP04 , 5F045DQ10 , 5F045EH02

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (2)

プラズマ処理装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2001-292508 Applicant：東京エレクトロン株式会社
導電性セグメントを周辺部分に追加したコイルを有する真空プラズマ・プロセッサ
Gazette classification：公表公報 Application number：特願2000-512229 Applicant：ラムリサーチコーポレーション

Cited by examiner (8)

プラズマ処理装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2002-184366 Applicant：ワイエイシイ株式会社
大形加工物用のプラズマ加工機
Gazette classification：公表公報 Application number：特願平8-517708 Applicant：ラムリサーチコーポレーション
プラズマ処理装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-004174 Applicant：松下電器産業株式会社

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