Pat
J-GLOBAL ID:200903084719226927
窒化物半導体発光素子
Inventor:
,
,
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
鈴江 武彦 (外5名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2001282288
Publication number (International publication number):2002141553
Application date: Feb. 23, 1996
Publication date: May. 17, 2002
Summary:
【要約】 (修正有)【課題】発光出力が高く、発光スペクトルの半値幅が狭い窒化物半導体発光素子が提供する。【解決手段】活性層95を量子井戸構造とする。活性層95上に設けられるp型クラッド層96のうち、第1のp型クラッド層96aをアルミニウムとガリウムを含むp型窒化物半導体で形成し、第2のp型クラッド層96bを同様のp型窒化物半導体であるが、第1のp型クラッド層96bよりもバンドギャップの大きいもので形成する。
Claim (excerpt):
第1および第2の主面を有し、かつインジウムとガリウムを含む窒化物半導体を包含する量子井戸構造の活性層、該活性層の第1の主面に接して設けられ、かつn型In<SB>j </SB>Ga<SB>1-j </SB>N(ここで、0<j<1)からなる第1のn型クラッド層、該第1のn型層よりも活性層から離れた位置に設けられ、かつn型Alb Ga1-b N(ここで、0<b<1)からなる第2のn型クラッド層、該第2のn型層よりも活性層から離れた位置に設けられ、かつn型GaNからなるn型コンタクト層、および該活性層の第2の主面に接して設けられたp型窒化物半導体層を備えることを特徴とする窒化物半導体発光素子。
IPC (2):
H01L 33/00
, H01S 5/343 610
FI (2):
H01L 33/00 C
, H01S 5/343 610
F-Term (13):
5F041AA03
, 5F041AA04
, 5F041AA11
, 5F041CA05
, 5F041CA40
, 5F073AA55
, 5F073AA73
, 5F073AA74
, 5F073CA02
, 5F073CA07
, 5F073CB06
, 5F073EA03
, 5F073EA24
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (14)
-
3族窒化物半導体発光素子及びその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-210076
Applicant:豊田合成株式会社, 赤崎勇, 天野浩
-
p型窒化ガリウムの成長方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-042125
Applicant:日亜化学工業株式会社
-
窒化ガリウム系化合物半導体発光素子
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-157219
Applicant:日亜化学工業株式会社
-
半導体発光素子
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-203084
Applicant:日本電信電話株式会社
-
窒化ガリウム系化合物半導体発光素子
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-079045
Applicant:日亜化学工業株式会社
-
青色発光素子
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-114541
Applicant:日亜化学工業株式会社
-
発光素子
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-087062
Applicant:旭化成工業株式会社
-
量子井戸型半導体レーザ
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-314770
Applicant:旭化成工業株式会社
-
窒化ガリウム系化合物半導体発光素子
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-079046
Applicant:日亜化学工業株式会社
-
半導体発光装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-135220
Applicant:旭化成工業株式会社
-
窒化ガリウム系化合物半導体レーザダイオード
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-092017
Applicant:豊田合成株式会社
-
特開平4-068579
-
半導体レーザ素子
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-243681
Applicant:株式会社日立製作所
-
半導体レーザ素子
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-065546
Applicant:株式会社日立製作所
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3族窒化物半導体発光素子及びその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-210076
Applicant:豊田合成株式会社, 赤崎勇, 天野浩
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p型窒化ガリウムの成長方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-042125
Applicant:日亜化学工業株式会社
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窒化ガリウム系化合物半導体発光素子
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Application number:特願平5-157219
Applicant:日亜化学工業株式会社
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半導体発光素子
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Applicant:日亜化学工業株式会社
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青色発光素子
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Applicant:旭化成工業株式会社
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Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-314770
Applicant:旭化成工業株式会社
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Application number:特願平5-079046
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Application number:特願平4-135220
Applicant:旭化成工業株式会社
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窒化ガリウム系化合物半導体レーザダイオード
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-092017
Applicant:豊田合成株式会社
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特開平4-068579
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半導体レーザ素子
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-243681
Applicant:株式会社日立製作所
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半導体レーザ素子
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-065546
Applicant:株式会社日立製作所
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