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J-GLOBAL ID：200903093441740658

重合性不飽和カルボン酸エステル、高分子化合物、フォトレジスト用樹脂組成物及び半導体の製造法

Inventor： 堤 聖晴
Applicant, Patent owner： ダイセル化学工業株式会社
Agent (1)： 後藤 幸久
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2004362086
Publication number (International publication number)：2006169147
Application date： Dec. 14, 2004
Publication date： Jun. 29, 2006
Summary：

【課題】 適度な極性を有する酸脱離性ユニットを形成するのに有用な重合性不飽和カルボン酸エステルを提供する。【解決手段】 下記式(1a)又は(1b)【化1】(式中、Raは水素原子、ハロゲン原子、炭素数1〜6のアルキル基又は炭素数1〜6のハロアルキル基を示す。Rb、Rc、Rdは、同一又は異なって、アルキル基、ハロアルキル基又はシクロアルキル基を示す。環Z1、環Z2はそれぞれ、少なくとも脂環式炭素環とエーテル酸素原子を含む多環を示す。環Z1、環Z2は置換基を有していてもよい)で表される重合性不飽和カルボン酸エステル。【選択図】 なし

Claim (excerpt)：

下記式(1a)又は(1b)

IPC (4)：

C07D 493/08 ,  C08F 20/28 ,  G03F 7/039 ,  H01L 21/027

FI (4)：

C07D493/08 A ,  C08F20/28 ,  G03F7/039 601 ,  H01L21/30 502R

F-Term (30)：

2H025AA02 ,  2H025AB16 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB08 ,  2H025CB14 ,  2H025CB41 ,  4C071AA03 ,  4C071BB01 ,  4C071CC11 ,  4C071DD08 ,  4C071EE05 ,  4C071FF15 ,  4C071GG03 ,  4C071KK14 ,  4C071LL03 ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100AR22Q ,  4J100BC09Q ,  4J100BC15P ,  4J100BC53P ,  4J100BC53Q ,  4J100CA01 ,  4J100CA04 ,  4J100DA04 ,  4J100JA38

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (1)

• レジスト材料及びレジストパターンの形成方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-050264   Applicant：富士通株式会社

Cited by examiner (13)

• エステル化合物、高分子化合物、レジスト材料、及びパターン形成方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2003-330904   Applicant：信越化学工業株式会社
• 再溶解性酸架橋型高分子及び該高分子と光酸発生剤とを組み合わせた感光性樹脂組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2000-034613   Applicant：科学技術振興事業団
• 不飽和基含有アクリレ-ト類、その誘導体及びそれらの製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平11-105942   Applicant：ダイセル化学工業株式会社
• 化学増幅型ホトレジスト組成物のモノマー
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2003-134664   Applicant：エバーライトユーエスエーインコーポレイティッド
• 新規なエステル化合物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2002-182404   Applicant：信越化学工業株式会社, セントラル硝子株式会社
• (メタ)アクリル酸5-オキソ-4,8-ジオキサトリシクロ[4.2.1.03,7]ノナン-2-イルの製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2001-222562   Applicant：株式会社クラレ
• 重合体、化学増幅型レジスト組成物、および、パターン形成方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2001-368904   Applicant：三菱レイヨン株式会社
• (メタ)アクリル酸エステル、その原料アルコール、および、それらの製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2001-366958   Applicant：三菱レイヨン株式会社
• 環式骨格を有する(メタ)アクリル酸エステルの製造法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2000-323374   Applicant：ダイセル化学工業株式会社
• 感光性材料
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-185046   Applicant：株式会社東芝
• 特開平4-283575
  
• 特許第984827号
  
• 特許第935756号