感光性組成物、該感光性組成物に用いる化合物及び該感光性組成物を用いたパターン形成方法

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (4)：小栗昌平 , 本多弘徳 , 市川利光 , 高松猛
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2005149988
Publication number (International publication number)：2006330098
Application date： May. 23, 2005
Publication date： Dec. 07, 2006
Summary：

【課題】IC等の半導体製造工程、液晶、サーマルヘッド等の回路基板の製造、さらにその他のフォトファブリケーション工程などに使用される、疎密依存性、ラインエッジラフネス、パターンプロファイルに優れ、且つEUV光露光に於ける感度、溶解コントラストが改良された感光性組成物、当該感光性組成物を用いたパターン形成方法及び当該感光性組成物に有用な化合物を提供する。【解決手段】活性光線又は放射線の照射により特定構造の化合物を発生する化合物を含有する感光性組成物、当該感光性組成物を用いたパターン形成方法及び活性光線又は放射線の照射により特定構造の化合物を発生する化合物。【選択図】なし

Claim (excerpt)：

(A)活性光線又は放射線の照射により下記一般式(I)で表される化合物を発生する化合物を含有することを特徴とする感光性組成物。

IPC (3)：

G03F 7/004 , G03F 7/039 , H01L 21/027

FI (3)：

G03F7/004 503B , G03F7/039 601 , H01L21/30 502R

F-Term (13)：

2H025AA02 , 2H025AA03 , 2H025AB16 , 2H025AB17 , 2H025AC04 , 2H025AC08 , 2H025AD03 , 2H025BE07 , 2H025BE10 , 2H025BG00 , 2H025CB14 , 2H025CB41 , 2H025CB43

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (12)

ポジ型レジスト組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2000-321128 Applicant：富士写真フイルム株式会社
感度安定化ポジ作用性フォトレジスト組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-112062 Applicant：ミネソタマイニングアンドマニュファクチャリングカンパニー
化学増幅型レジスト組成物
Gazette classification：再公表公報 Application number：JP2000004623 Applicant：三菱レイヨン株式会社

Show all

Cited by examiner (5)

ポジ型レジスト組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2000-150217 Applicant：富士写真フイルム株式会社
感熱性組成物及びそれを用いた平版印刷版原版
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2000-184603 Applicant：富士写真フイルム株式会社
光酸発生剤化合物、化学増幅ポジ型レジスト材料及びパターン形成方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2002-369145 Applicant：信越化学工業株式会社

Show all

Return to Previous Page