Pat
J-GLOBAL ID:200903097254263191
半導体発光素子
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
佐藤 一雄 (外3名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1998260547
Publication number (International publication number):2000091708
Application date: Sep. 14, 1998
Publication date: Mar. 31, 2000
Summary:
【要約】【課題】 活性層からの電子のオーバーフローに対するバリア効果を維持しつつ、活性層に対する正孔の流入に対するバリアを低減することができる半導体発光素子を提供することを目的とする。【解決手段】 活性層に注入された電子のオーバーフローを抑制するバリアとして作用し、さらに、活性層に注入される前の正孔に対するバリア作用が緩和されたオーバーフロー防止層を設ける。具体的には、層厚や組成が徐々に変化する超格子や組成が連続的または階段状に変化する構造とすることにより、正孔の流入を促進して、キャリアのロスを解消し、発光効率の高い半導体発光素子を実現できる。
Claim (excerpt):
活性層を備え、前記活性層に電子と正孔とを注入して発光を生じさせる半導体発光素子であって、前記活性層に注入された前記電子と前記正孔のいずれか一方のオーバーフローを抑制するバリアとして作用するオーバーフロー防止層をさらに備え、前記オーバーフロー防止層は、さらに、前記活性層に注入される前の前記電子と前記正孔のいずれか他方に対するバリア作用が緩和されてなることを特徴とする半導体発光素子。
F-Term (15):
5F073AA13
, 5F073AA45
, 5F073AA51
, 5F073AA74
, 5F073CA02
, 5F073CA04
, 5F073CA05
, 5F073CA12
, 5F073CA14
, 5F073CA22
, 5F073CB04
, 5F073CB05
, 5F073EA23
, 5F073EA28
, 5F073EA29
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (23)
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特開平4-218994
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特開平4-218994
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窒化物半導体デバイス
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-290218
Applicant:日亜化学工業株式会社
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GaN系発光素子
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-311441
Applicant:豊田合成株式会社, 赤崎勇, 天野浩, 科学技術振興事業団
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3族窒化物半導体レーザ素子
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-227890
Applicant:豊田合成株式会社, 株式会社豊田中央研究所, 赤崎勇, 天野浩
-
半導体レーザ
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-264765
Applicant:日本電装株式会社
-
窒化ガリウム系半導体発光素子
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-258546
Applicant:日本電気株式会社
-
半導体レーザ、半導体発光素子、及び、その製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-215147
Applicant:富士通株式会社
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窒化ガリウム系化合物半導体発光素子
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-142681
Applicant:松下電器産業株式会社
-
半導体レ-ザ装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-170509
Applicant:松下電器産業株式会社
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窒化物半導体素子
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-051232
Applicant:日亜化学工業株式会社
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半導体発光装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-291038
Applicant:富士通株式会社
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半導体発光装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-142224
Applicant:ローム株式会社
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半導体レーザ装置及びその作製方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-170703
Applicant:株式会社日立製作所
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特開平4-085981
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特開平4-085981
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半導体発光素子
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-181779
Applicant:ソニー株式会社
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半導体発光素子
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-264284
Applicant:松下電器産業株式会社
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ミニバンドを有する半導体素子
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-052135
Applicant:シャープ株式会社
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特開平4-218994
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特開平4-085981
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特開平4-218994
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特開平4-085981
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