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J-GLOBAL ID:201403045646072971
スパッタリングターゲット及びその製造方法
Inventor:
,
,
,
,
Applicant, Patent owner:
Agent (3):
渡辺 喜平
, 田中 有子
, 佐藤 猛
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2013193862
Publication number (International publication number):2014029032
Application date: Sep. 19, 2013
Publication date: Feb. 13, 2014
Summary:
【課題】移動度が高く、S値の低い電界効果型トランジスタの提供を目的とする。【解決手段】 In(インジウム)元素、Zn(亜鉛)元素及びGa(ガリウム)元素を下記(1)〜(3)の原子比で含む複合酸化物からなるスパッタリングターゲット。 In/(In+Zn)=0.2〜0.8 (1) In/(In+Ga)=0.59〜0.99 (2) Zn/(Ga+Zn)=0.29〜0.99 (3)【選択図】図1
Claim (excerpt):
In(インジウム)元素、Zn(亜鉛)元素及びGa(ガリウム)元素を下記(1)〜(3)の原子比で含む複合酸化物からなるスパッタリングターゲット。
In/(In+Zn)=0.2〜0.8 (1)
In/(In+Ga)=0.59〜0.99 (2)
Zn/(Ga+Zn)=0.29〜0.99 (3)
IPC (3):
C23C 14/34
, H01L 29/786
, H01L 21/336
FI (4):
C23C14/34 A
, H01L29/78 618B
, H01L29/78 618A
, H01L29/78 618F
F-Term (82):
4K029AA09
, 4K029AA24
, 4K029BA50
, 4K029BC09
, 4K029BD01
, 4K029CA05
, 4K029DC05
, 4K029DC09
, 4K029DC34
, 4K029DC35
, 4K029DC39
, 4K029EA03
, 4K029EA05
, 4K029EA08
, 4K029EA09
, 4K029GA01
, 5F110AA01
, 5F110AA17
, 5F110BB01
, 5F110BB03
, 5F110BB05
, 5F110CC05
, 5F110CC07
, 5F110DD01
, 5F110DD02
, 5F110DD03
, 5F110DD05
, 5F110DD13
, 5F110EE02
, 5F110EE03
, 5F110EE04
, 5F110EE06
, 5F110EE07
, 5F110EE42
, 5F110EE43
, 5F110EE44
, 5F110EE45
, 5F110FF01
, 5F110FF02
, 5F110FF03
, 5F110FF09
, 5F110FF27
, 5F110FF28
, 5F110FF29
, 5F110FF30
, 5F110GG01
, 5F110GG06
, 5F110GG15
, 5F110GG24
, 5F110GG25
, 5F110GG28
, 5F110GG29
, 5F110GG32
, 5F110GG42
, 5F110GG43
, 5F110GG44
, 5F110GG58
, 5F110HJ30
, 5F110HK02
, 5F110HK03
, 5F110HK04
, 5F110HK06
, 5F110HK07
, 5F110HK08
, 5F110HK21
, 5F110HK25
, 5F110HK32
, 5F110HK33
, 5F110HK34
, 5F110HK42
, 5F110NN12
, 5F110NN13
, 5F110NN22
, 5F110NN23
, 5F110NN24
, 5F110NN40
, 5F110NN41
, 5F110NN45
, 5F110NN46
, 5F110NN49
, 5F110NN72
, 5F110QQ12
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (13)
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導電性酸化物およびそれを用いた電極
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Application number:特願平7-101321
Applicant:ホーヤ株式会社
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反射型TFT基板及び反射型TFT基板の製造方法
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Application number:特願2006-031833
Applicant:出光興産株式会社
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Gazette classification:公開公報
Application number:特願2005-325366
Applicant:キヤノン株式会社, 国立大学法人東京工業大学
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ターゲットおよびその製造方法
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Application number:特願平7-241064
Applicant:出光興産株式会社
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Application number:特願2005-193504
Applicant:出光興産株式会社
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電界効果型トランジスタ
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Application number:特願2006-224309
Applicant:キヤノン株式会社
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Application number:特願平5-190480
Applicant:出光興産株式会社
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Application number:特願平5-315084
Applicant:出光興産株式会社
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Application number:特願平5-315075
Applicant:出光興産株式会社
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半導体素子
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2005-258269
Applicant:キヤノン株式会社
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Application number:特願2005-119135
Applicant:三菱マテリアル株式会社
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Application number:特願2001-161583
Applicant:株式会社日鉱マテリアルズ
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Application number:特願2005-368735
Applicant:出光興産株式会社
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