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J-GLOBAL ID：201403060682358732

位置合わせマーク用光学吸収材

Inventor： クスナトディノヴ,ニヤズ ,  セリニディス,コスタ ,  イムホフ,ジョセフ・マイケル ,  ラブレイク,ドウェイン・エル
Applicant, Patent owner： モレキュラー・インプリンツ・インコーポレーテッド
Agent (2)： 山川 政樹 ,  山川 茂樹
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：2014508519
Publication number (International publication number)：2014522100
Application date： Apr. 25, 2012
Publication date： Aug. 28, 2014
Summary：

高吸収材を有する位置合わせマークを有するインプリントリソグラフィテンプレート。位置合わせマークは液体延展の影響を受けにくく、テンプレートフィーチャの液体インプリント充填時、安定性を提供することができ、かつ位置合わせシステムのコントラストを増加することができる。

Claim (excerpt)：

基板上に配置された成形可能材料をパターニングするためのインプリントテンプレートであって、 第1の側及び第2の側を有する本体と、 パターニングされた表面を有するモールドであって、前記モールドが前記本体の前記第1の側に配置されており、前記パターニングされた表面が第1のパターンを画定するフィーチャ領域を有する、モールドと、 前記フィーチャ領域の外側の前記パターニングされた表面に形成されたテンプレート位置合わせマークであって、前記テンプレート位置合わせマークが高吸収材を含む複数のフィーチャを有する、テンプレート位置合わせマークと、 を含む、テンプレート。

IPC (3)：

H01L 21/027 ,  B29C 39/04 ,  B29C 33/38

FI (4)：

H01L21/30 502D ,  H01L21/30 502M ,  B29C39/04 ,  B29C33/38

F-Term (32)：

4F202AF01 ,  4F202AG05 ,  4F202AH33 ,  4F202AJ06 ,  4F202AM32 ,  4F202AR07 ,  4F202AR12 ,  4F202AR20 ,  4F202CA19 ,  4F202CB01 ,  4F202CB29 ,  4F202CD22 ,  4F202CR06 ,  4F204AA44 ,  4F204AB03 ,  4F204AC05 ,  4F204AF01 ,  4F204AG01 ,  4F204AG05 ,  4F204AJ08 ,  4F204EA03 ,  4F204EB01 ,  4F204EK01 ,  4F204EK18 ,  4F204EK24 ,  5F146AA31 ,  5F146AA32 ,  5F146EA07 ,  5F146EA18 ,  5F146EB02 ,  5F146EB08 ,  5F146EB10

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (10)

• テンプレート及びパターン形成方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2008-155611   Applicant：株式会社東芝
• モールド、インプリント方法、及びチップの製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2006-194905   Applicant：キヤノン株式会社
• ナノインプリント用テンプレート及びパターン転写装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2010-208540   Applicant：株式会社東芝
• 位置合わせマークを有するインプリント・リソグラフィ・テンプレート
  Gazette classification：公表公報   Application number：特願2006-527012   Applicant：ボード・オブ・リージエンツ,ザ・ユニバーシテイ・オブ・テキサス・システム
• 位置合わせ方法、インプリント方法、位置合わせ装置、及び位置計測方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2007-108341   Applicant：キヤノン株式会社
• モールド、モールドの製造方法、インプリント装置及びインプリント方法、インプリント方法を用いた構造体の製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2008-022392   Applicant：キヤノン株式会社
• 光透過ナノスタンプ方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2003-077832   Applicant：株式会社日立製作所
• テンプレート及びパターン形成方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2009-138497   Applicant：株式会社東芝
• インプリントマスク、その製造方法、及び半導体装置の製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2010-121446   Applicant：株式会社東芝
• 高コントラスト位置合わせマークを有するテンプレート
  Gazette classification：公表公報   Application number：特願2012-552119   Applicant：モレキュラー・インプリンツ・インコーポレーテッド

Cited by examiner (6)

• テンプレート及びパターン形成方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2008-155611   Applicant：株式会社東芝
• 位置合わせマークを有するインプリント・リソグラフィ・テンプレート
  Gazette classification：公表公報   Application number：特願2006-527012   Applicant：ボード・オブ・リージエンツ,ザ・ユニバーシテイ・オブ・テキサス・システム
• 位置合わせ方法、インプリント方法、位置合わせ装置、及び位置計測方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2007-108341   Applicant：キヤノン株式会社
• モールド、インプリント方法、及びチップの製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2006-194905   Applicant：キヤノン株式会社
• モールド、モールドの製造方法、インプリント装置及びインプリント方法、インプリント方法を用いた構造体の製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2008-022392   Applicant：キヤノン株式会社
• テンプレート及びパターン形成方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2009-138497   Applicant：株式会社東芝