特許
J-GLOBAL ID：200903005228589940
プラズマ処理装置用部材およびその製造方法
発明者：
,
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出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
磯野 道造
, 多田 悦夫
, 富田 哲雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-153269
公開番号（公開出願番号）：特開2008-303442
出願日： 2007年06月08日
公開日（公表日）： 2008年12月18日
要約：
【課題】耐スティッキング性に優れ、CVD装置の下部電極等として好適かつ安定した形状を備え、プラズマ処理時の異常放電を抑制することが可能なプラズマ処理装置用部材を提供する。【解決手段】機械加工で表面を平滑に仕上げたアルミニウム合金からなる基材2と、この基材2の表面に成膜された陽極酸化皮膜に水和処理を施して微細クラックを形成させた陽極酸化皮膜3と、からなるプラズマ処理装置用部材1であって、陽極酸化皮膜3は、印加電圧100V時のリーク電流密度が0.9×10-5A/cm2を超え、膜厚が3μm以上、表面の算術平均粗さが1μm未満、リン酸-クロム酸浸漬試験における溶解速度が100mg/dm2/15min未満であって、この陽極酸化皮膜3を形成された表面の平面度は50μm以下であることを特徴とする。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
ワークにプラズマ処理を施すプラズマ処理装置を構成するプラズマ処理装置用部材であって、
アルミニウムまたはアルミニウム合金からなる基材と、
前記基材の表面に形成された陽極酸化皮膜と、を備え、
前記陽極酸化皮膜は、印加電圧100V時のリーク電流密度が0.9×10-5A/cm2を超え、
膜厚が3μm以上であり、
表面の算術平均粗さが1μm未満であって、
前記陽極酸化皮膜を形成された表面の平面度が50μm以下であることを特徴とするプラズマ処理装置用部材。
IPC (6件)：
C23C 16/44
, H01L 21/205
, C25D 11/04
, C25D 11/18
, H01L 21/683
, H05H 1/46
C23C16/44 B
, H01L21/205
, C25D11/04 302
, C25D11/18 301A
, H01L21/68 N
, H05H1/46 A
4K030KA46
, 4K030KA47
, 5F031CA02
, 5F031HA02
, 5F031HA03
, 5F031HA12
, 5F031HA33
, 5F031MA28
, 5F031PA14
, 5F031PA30
, 5F045AA08
, 5F045EC05
, 5F045EH08
, 5F045EH12
, 5F045EM09
, 5F045GB02
出願人引用 (17件)
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審査官引用 (15件)
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