特許
J-GLOBAL ID：200903006920783922
遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
萩野 平 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-327055
公開番号（公開出願番号）：特開2000-181054
出願日： 1998年11月17日
公開日（公表日）： 2000年06月30日
要約：
【要約】【課題】 有機溶媒に溶解したとき、樹脂に対する相溶性が良好で、その溶液の経時安定性が優れ、かつ遠紫外光、とくにArFエキシマレーザー光に対して、感度が優れたポジ型フォトレジスト組成物を提供すること。【解決手段】 活性光線または放射線の照射により、スルホン酸を発生する特定の構造の化合物 、及び特定の構造の脂環式炭化水素を含む部分構造のうち少なくとも1つで保護されたアルカリ可溶性基を含み、酸の作用により分解しアルカリに対する溶解性が増加する樹脂を含有する遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物。
請求項（抜粋）：
活性光線または放射線の照射により、スルホン酸を発生する下記一般式(I)または(II)で表される化合物 、及び下記一般式(pI)〜(pVI)で表される脂環式炭化水素を含む部分構造のうち少なくとも1つで保護されたアルカリ可溶性基を含み、酸の作用により分解しアルカリに対する溶解性が増加する樹脂を含有することを特徴とする遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物。【化1】式(I)、(II)中、R1 〜R5 はそれぞれ水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいシクロアルキル基、置換基を有していてもよいアルコキシ基、置換基を有していてもよいアルコキシカルボニル基、置換基を有していてもよいアシル基、置換基を有していてもよいアシロキシ基、ニトロ基、ハロゲン原子、水酸基、カルボキシル基を表す。a:1〜5、b:1〜5、l:1〜5、m:0〜5、n:0〜5を表す。但し、R1 、R2 の少なくとも一方は、炭素数5個以上の、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいシクロアルキル基、置換基を有していてもよいアルコキシ基、置換基を有していてもよいアルコキシカルボニル基、置換基を有していてもよいアシル基、置換基を有していてもよいアシロキシ基を表す。l+m+n=1の時、R3 は置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいシクロアルキル基、置換基を有していてもよいアルコキシ基、置換基を有していてもよいアルコキシカルボニル基、置換基を有していてもよいアシル基、置換基を有していてもよいアシロキシ基を表す。X:R-SO3 、R:置換基を有していてもよい脂肪族炭化水素基、置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基を表す。【化2】式中、R11は、メチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、イソブチル基又はsec-ブチル基を表し、Zは、炭素原子とともに脂環式炭化水素基を形成するのに必要な原子団を表す。R12〜R16は、各々独立に、炭素数1〜4個の、直鎖もしくは分岐のアルキル基又は脂環式炭化水素基を表し、但し、R12〜R14のうち少なくとも1つ、もしくはR15、R16のいずれかは脂環式炭化水素基を表す。R17〜R21は、各々独立に、水素原子、炭素数1〜4個の、直鎖もしくは分岐のアルキル基又は脂環式炭化水素基を表し、但し、R17〜R21のうち少なくとも1つは脂環式炭化水素基を表す。また、R19、R21のいずれかは炭素数1〜4個の、直鎖もしくは分岐のアルキル基又は脂環式炭化水素基を表す。R22〜R25は、各々独立に、炭素数1〜4個の、直鎖もしくは分岐のアルキル基又は脂環式炭化水素基を表し、但し、R22〜R25のうち少なくとも1つは脂環式炭化水素基を表す。
IPC (3件)：
G03F 7/004 503
, G03F 7/039 601
, H01L 21/027
G03F 7/004 503 A
, G03F 7/039 601
, H01L 21/30 502 R
2H025AA00
, 2H025AA01
, 2H025AA02
, 2H025AB16
, 2H025AC04
, 2H025AC08
, 2H025AD03
, 2H025BE07
, 2H025BE10
, 2H025CB14
, 2H025CB41
, 2H025CB52
出願人引用 (11件)
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審査官引用 (16件)
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