微粒子量の低減されたフォトレジスト組成物の製造方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：久保山隆 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-252127
公開番号（公開出願番号）：特開2002-062667
出願日： 2000年08月23日
公開日（公表日）： 2002年02月28日
要約：

【要約】【課題】簡便な操作でフォトレジスト組成物から微細なごみ(微粒子)を低いレベルまで除去することができる方法を提供する。【解決手段】フィルターにフォトレジスト組成物を通過させ、通過後のフォトレジスト組成物をさらに該フィルターに導き、閉鎖径内で循環させることにより該ホトレジスト組成物中の微粒子を除去することを特徴とする微粒子量の低減されたフォトレジスト組成物の製造方法。

請求項（抜粋）：

フィルターにフォトレジスト組成物を通過させ、通過後のフォトレジスト組成物をさらに該フィルターに導き、閉鎖径内で循環させることにより該フォトレジスト組成物中の微粒子を除去することを特徴とする微粒子量の低減されたフォトレジスト組成物の製造方法。

IPC (3件)：

G03F 7/38 501 , B01D 35/02 , G03F 7/022

FI (3件)：

G03F 7/38 501 , G03F 7/022 , B01D 35/02 Z

Fターム (7件)：

2H025AB16 , 2H025AC04 , 2H025EA01 , 2H025EA05 , 2H096AA25 , 2H096DA10 , 4D064AA40

引用特許：

審査官引用 (17件)

特開平4-085542
特開平4-085542
塗布装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-007919 出願人：東京エレクトロン株式会社

全件表示

引用文献：

審査官引用 (1件)

日本ミリポア・リミテッドのカタログ「フロロガードケミカルカートリッジフィルター」, 19840204

前のページに戻る