特許
J-GLOBAL ID：200903035162695863
レジスト組成物
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
和気 操
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-052036
公開番号（公開出願番号）：特開2004-302440
出願日： 2004年02月26日
公開日（公表日）： 2004年10月28日
要約：
【課題】 ラフネス、エッチング耐性、感度、解像度に優れ、微細パターンを高精度にかつ安定して形成することができるポジ型、ネガ型レジスト組成物、特に電子線、X線に有効に感応する電子線、X線用として好適な化学増幅型ポジ、ネガレジスト組成物を提供する。【解決手段】 ポジ型レジスト組成物は、酸解離性基を有するアルカリ不溶またはアルカリ難溶性樹脂(A)と、電子線または140nm以下の波長を有する放射線の照射により酸を発生する化合物(B)と、下記式(1)あるいは下記式(2)で表される化学構造単位を分子内に有する分子量が1000以下の化合物(C-1)、および酸の作用により上記化合物を生成する化合物(C-2)から選ばれた少なくとも一つの化合物(C)とを含み、ネガ型レジスト組成物は、アルカリ可溶性樹脂(D)と、上記化合物(B)と、酸架橋剤(E)と、上記化合物(C)とを含む。【化1】【選択図】 無
請求項（抜粋）：
酸解離性基を有するアルカリ不溶またはアルカリ難溶性樹脂(A)と、
電子線または140nm以下の波長を有する放射線の照射により酸を発生する化合物(B)と、
下記式(1)あるいは下記式(2)で表される化学構造単位を分子内に有する分子量が1000以下の化合物(C-1)、および酸の作用により前記化合物を生成する化合物(C-2)から選ばれた少なくとも一つの化合物(C)とを含むポジ型レジスト組成物。
IPC (4件)：
G03F7/004
, G03F7/038
, G03F7/039
, H01L21/027
G03F7/004 501
, G03F7/038 601
, G03F7/039 601
, H01L21/30 502R
2H025AA01
, 2H025AA02
, 2H025AA03
, 2H025AB16
, 2H025AC05
, 2H025AC06
, 2H025AD01
, 2H025AD03
, 2H025BE00
, 2H025BE10
, 2H025BG00
, 2H025CB14
, 2H025CB16
, 2H025CB17
, 2H025CB41
, 2H025CB45
, 2H025CC20
