特許
J-GLOBAL ID：200903043144536904

反射防止膜材料

発明者：
渡辺 聡

渡辺 聡 について

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名倉 茂広

名倉 茂広 について

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石原 俊信

石原 俊信 について


出願人/特許権者：
信越化学工業株式会社

信越化学工業株式会社 について


代理人 (1件)： 好宮 幹夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-189867
公開番号（公開出願番号）：特開2000-010294
出願日： 1998年06月19日
公開日（公表日）： 2000年01月14日
要約：
【要約】【課題】 成膜性、塗布性等が良く、微細で寸法精度及び合わせ精度が高く、簡便で生産性が高く、再現性良くレジストパターンを形成することができるレジスト上層、特に化学増幅ポジ型レジスト上層の反射防止膜として、さらにレジスト表面の過剰な酸による膜減りを起こさず且つ酸の失活も引き起こさないため上記PEDの問題も起こらずそれ故、特に化学増幅型レジストの場合には保護膜としても機能するpH2〜4のレジスト上層の材料を、フロンを使用することなく提供する。【解決手段】 a)水溶性ポリマーと、b)少なくとも1種のフルオロアルキルスルホン酸と、c)少なくとも1種のアルカノールアミンと、d)少なくとも1種のアミド誘導体を含む水溶液からなることを特徴とする反射防止膜材料。
請求項（抜粋）：
a)水溶性ポリマーと、b)少なくとも1種のフルオロアルキルスルホン酸と、c)少なくとも1種のアルカノールアミンと、d)少なくとも1種のアミド誘導体を含む水溶液からなることを特徴とする反射防止膜材料。
IPC (7件)：
G03F 7/11 503 ,  C08K 5/17 ,  C08K 5/20 ,  C08K 5/42 ,  C08L 39/06 ,  C08L101/14 ,  H01L 21/027
FI (7件)：
G03F 7/11 503 ,  C08K 5/17 ,  C08K 5/20 ,  C08K 5/42 ,  C08L 39/06 ,  C08L101/14 ,  H01L 21/30 574
Fターム (31件)：
2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AA03 ,  2H025AB14 ,  2H025AB16 ,  2H025AB20 ,  2H025AC01 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE10 ,  2H025BJ00 ,  2H025CB53 ,  2H025CC20 ,  2H025DA14 ,  2H025DA34 ,  4J002BJ001 ,  4J002EN107 ,  4J002EP018 ,  4J002ES007 ,  4J002EU027 ,  4J002EU028 ,  4J002EU037 ,  4J002EU038 ,  4J002EU077 ,  4J002EU118 ,  4J002EU138 ,  4J002EV236 ,  4J002GP03 ,  4J002HA04 ,  5F046PA07
引用特許：
審査官引用 (11件)
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