特許
J-GLOBAL ID：200903050059216840

測定装置、照射装置および露光方法

発明者：
近藤 洋行

近藤 洋行 について


出願人/特許権者：
株式会社ニコン

株式会社ニコン について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-159020
公開番号（公開出願番号）：特開2000-346817
出願日： 1999年06月07日
公開日（公表日）： 2000年12月15日
要約：
【要約】【課題】 X線光学素子上の汚染状態を測定することを目的とする。また、更に、X線光学素子の交換や洗浄の必要性の有無を知ることができるX線照射装置又は露光方法を提供することを目的とする。【解決手段】 光学素子23、25に電磁波又は電子線を照射して、光学素子23、25の汚れ具合を測定する測定装置において、光学素子23、25から放出される電子を検出し、検出された電子のうち所定のエネルギー範囲の電子を選択して、選択されたエネルギー範囲内の電子を測定する測定手段3a、3bを備えた。
請求項（抜粋）：
光学素子に電磁波又は電子線を照射して、前記光学素子の汚れ具合を測定する測定装置において、前記光学素子から放出される電子を検出し、前記検出された電子のうち、所定のエネルギー範囲の電子を選択して、前記選択されたエネルギー範囲内の前記電子を測定する測定手段を備えたことを特徴とする測定装置。
IPC (3件)：
G01N 23/227 ,  G21K 5/02 ,  H01L 21/027
FI (3件)：
G01N 23/227 ,  G21K 5/02 X ,  H01L 21/30 502 Z
Fターム (32件)：
2G001AA03 ,  2G001AA07 ,  2G001AA09 ,  2G001BA08 ,  2G001BA09 ,  2G001CA03 ,  2G001DA09 ,  2G001EA07 ,  2G001EA20 ,  2G001FA03 ,  2G001FA18 ,  2G001FA25 ,  2G001FA30 ,  2G001GA01 ,  2G001GA19 ,  2G001JA15 ,  2G001KA01 ,  2G001KA03 ,  2G001LA11 ,  2G001LA20 ,  2G001MA05 ,  2G001NA15 ,  2G001PA07 ,  5F046DA12 ,  5F046DA30 ,  5F046DB14 ,  5F046GA03 ,  5F046GA06 ,  5F046GA14 ,  5F046GB01 ,  5F046GC03 ,  5F046GD10
引用特許：
審査官引用 (18件)
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引用文献：
審査官引用 (1件)

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