特許
J-GLOBAL ID：200903054774036308
基板保持装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
家入 健
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-348219
公開番号（公開出願番号）：特開2003-152060
出願日： 2001年11月14日
公開日（公表日）： 2003年05月23日
要約：
【要約】【課題】基板の裏面を汚さず、基板の表面を平坦に吸着する基板保持装置を提供すること。【解決手段】本発明に係る基板保持装置は、シリコンウエハ1、チャック台2、真空チャック3、真空ポンプ4、真空経路51、52、バルブ61、62、63、64を備えている。チャック台2は、真空経路51、52を備えている。シリコンウエハ1の下面、真空チャック3の上面および土手部31の内周面と、チャック台2の上面、真空チャック3の下面、土手部31の内周面、および土手部33の外周面により密閉された空間が形成されている。真空ポンプ4によりこれらの密閉された空間を減圧することで、シリコンウエハ1および真空チャック3を保持することが可能である。
請求項（抜粋）：
真空吸着により基板を保持する基板保持装置であって、前記基板を載置し、当該基板を真空吸着するための真空経路を有する板状部材と、前記板状部材の下方に接触して設けられ、前記真空経路を介して前記基板を真空吸着するための真空経路を有するチャック台を備え、前記板状部材は、前記チャック台より離脱可能とした基板保持装置。
Fターム (10件)：
5F031CA02
, 5F031CA05
, 5F031HA02
, 5F031HA08
, 5F031HA14
, 5F031PA06
, 5F031PA14
, 5F031PA23
, 5F031PA24
, 5F031PA26
