特許
J-GLOBAL ID：200903059563550589

光導波路、光デバイスおよび光導波路の製造方法

発明者：
杉山 昌樹

杉山 昌樹 について

, 
中澤 忠雄

中澤 忠雄 について


出願人/特許権者：
富士通株式会社

富士通株式会社 について


代理人 (1件)： 酒井 昭徳
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-079116
公開番号（公開出願番号）：特開2004-287093
出願日： 2003年03月20日
公開日（公表日）： 2004年10月14日
要約：
【課題】小型で光損失を抑えることができること。【解決手段】チタンを拡散させて形成した光導波路1のうち、少なくとも曲がり部1a部分の両側あるいは外側の基板2を掘り下げてリッジ構造部3を形成する。リッジ構造部3の側面3aには、基板2の屈折率より小さい屈折率を有する酸化シリコン等からなる膜状のバッファ層を設ける。リッジ構造部3は、側面3aにより光のフィールドを閉じ込め、バッファ層は、散乱損を抑え、曲がり部1aにおける光損失を抑える。曲がり部1aを設けることにより、光導波路1を折り返すことができ、光導波路1が形成された光デバイスの小型化を図ることができる。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
基板上に形成される光導波路の一部が曲がった曲がり部を有する光導波路において、 前記曲がり部の両側に位置する前記基板を、前記曲がり部の形状に沿って掘り下げ形成したリッジ構造部と、 前記リッジ構造部の少なくとも前記曲がり部に面する側面に、前記基板が有する屈折率よりも低屈折率の材質を用いて膜形成したバッファ層と、 を備えたことを特徴とする光導波路。
IPC (3件)：
G02B6/122 ,  G02B6/13 ,  G02F1/035
FI (3件)：
G02B6/12 A ,  G02F1/035 ,  G02B6/12 M
Fターム (17件)：
2H047KA05 ,  2H047KA12 ,  2H047NA01 ,  2H047PA03 ,  2H047PA12 ,  2H047PA21 ,  2H047PA24 ,  2H047QA01 ,  2H047QA03 ,  2H047RA08 ,  2H079AA02 ,  2H079AA12 ,  2H079BA03 ,  2H079CA05 ,  2H079DA03 ,  2H079EA05 ,  2H079EB05
引用特許：
審査官引用 (19件)
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